- 面议
起订量：
PDC-32G Harrick 等离子清洗机
- 型号
- PDC-32G
First-Nano System GmbH
2003年 创立于德国德累斯顿工业大学（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司
2015年 上海成立德国韦氏纳米系统（香港）有限公司中国代表处，负责中国区业务
2018年 深圳正式成立韦氏纳米系统（深圳）有限公司，更好的为中国南方区市场
德国韦氏纳米系统成立以来，一直为客户想的更多，Thinking more ！！！
产品范围：
薄膜沉积/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems
详细信息
1. 高分子材料表面修饰。
2. 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
3. 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。
4. 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。
5. 清洗半导体元件、印刷线路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉积凝胶的基片。
8. 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。
10. 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
主要特点：
1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。
2. 功率为低、中、高三档可调。
3. 基本型：
- 清洗腔：长6.5英寸，直径3英寸,腔盖可拆卸；
- RF线圈最大施加功率18W；
- 1/8NPT针孔阀控制气流及腔体压力；
- 整机尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D；
- 重量：13 lbs；
4. 选配件
- 石英等离子清洗腔；
- 气体流量混合器；
- 真空泵；
