射线光电子能谱技术（XPS）是电子材料与元器件显微分析中的一种*分析技术，而且是和俄歇电子能谱技术（AES）常常配合使用的分析技术。由于它可以比俄歇电子能谱技术更准确地测量原子的内层电子束缚能及其化学位移，所以它不但为化学研究提供分子结构和原子价态方面的信息，还能为电子材料研究提供各种化合物的元素组成和含量、化学状态、分子结构、化学键方面的信息。它在分析电子材料时，不但可提供总体方面的化学信息，还能给出表面、微小区域和深度分布方面的信息。另外，因为入射到样品表面的X射线束是一种光子束，所以对样品的破坏性非常小。这一点对分析有机材料和高分子材料非常有利。

X射线光电子能谱分析仪（XPS）技术指标：

　　真控系统性能：5×10-10mbar

　　单色器空间分辨率：≤20microns

　　单色器能量分辨率：：≤0.45eV

　　单色器（大面积）能量分辨率：：400000cps（FWHM≤0.50Ev）

X射线光电子能谱分析仪（XPS）应用领域：

   1）对固体样品的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分析。

   2）固体样品表面的组成、化学状态分析，广泛应用于元素分析、多相研究、化合物结构鉴定、富集法微量元素分析、元素价态鉴定。

　3）对氧化、腐蚀、摩擦、润滑、燃烧、粘接、催化、包袱等微观机理研究；

   4）分子生物化学以及三维剖析如界面及过渡层的研究等方面有所应用。