SPV100真空等离子清洗机产品简述

　　（1.1）等离子清洗的作用原理主要是：

　　（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。

　　（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。

　　（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。

  （1.2）真空等离子清洗的优势等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。

　　与传统的一些清洗方法，如超声波清洗、UV清洗等，以下优点：

　　（A）处理温度低处理温度可以低至80℃、50℃以下，低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响。

　　（B）处理全程无污染等离子清洗机本身是很环保的设备，不产生任何污染，处理过程也不产生任何污染。

　　（C）处理效果稳定等离子清洗的处理效果非常均匀稳定，常规样品处理后较长时间内保持效果良好。

　　（D）可以处理各种形状的样品对于复杂形状的样品，等离子清洗都能找到合适的解决方案。真空等离子清洗更可实现对固体样品内部位置进行清洗。

（1.2）产品原理等离子清洗机的结构主要分为四大部分组成：控制系统、激励电源系统、真空腔体、工艺气体系统、以及真空泵系统。

        (A）控制系统：控制系统的功能在于控制整个设备的运行，包括人机界面（触摸屏）、PLC、电气电路。采用全自动控制系统的真空等离子清洗，可实现多种模式多种程序对清洗设备进行控制，满足不同客户的需求。

　　（B）激励电源系统：激励电源主要有三类：40KHz的中频激励电源，13.56MHz的射频激励电源，2.45GHz的微波激励电源。目前业界主要采用的是射频激励电源和中频激励电源。各自应用场合不同。

　　（C）真空腔体：真空腔体主要是分为三种材质的：1）铝合金腔体，2）不锈钢真空腔体，3）石英腔体。根据用户的不同需求，可实现不同的放电模式和适用不同的样品尺寸和产能。

　　（D）工艺气体系统：SPV100真空等离子清洗机工艺气体包括流量计、气压阀等，用户可灵活选择多路的工艺气体方案，氩气、氧气、氢气、氮气、四氟化碳等，可满足不同工艺方案要求。清洗各种产品表面。

　　（E）真空泵：真空泵分为油泵、干泵、罗茨泵，油泵主要采用双级旋片泵，根据用户所采用的腔体体积、工作效率、环境要求来制定真空泵的方案。

（2.1）技术参数

（2.2）尺寸参数




 

（3）性能优势

（3.1）*电源：采用*高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。

（3.2）全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。

（3.3）*放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。

（3.4）密封性的真空腔体设计：高级的高真空度真空腔体设计及制造工艺，配置进口真空泵。

（3.5）优质产品部件：产品全部部件采用国内外优质部件，确保设备性能*

（3.6）超低清洗温度：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响。

（3.7）精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控。

（3.8）适用形状复杂样品：清洗各种复杂形状的产品，包括内孔内壁，*均匀清洗


（4）案例及定制