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3010/3005/3025/3050 SU-8 3000光刻胶

型号
3010/3005/3025/3050
参数
供货周期:一个月 规格:100ML,250ML,500ML,1L 应用领域:电子 主要用途:出色的抗干蚀刻性,降低涂层应力,提高附着力
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匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息

特征

•提高附着力

         •降低涂层应力

 

•高纵横比成像

          •垂直侧壁

          •单层涂膜厚度大于100mm

           •出色的抗干蚀刻性

SU-8 3000抗蚀剂经过专门设计,可与MicroChem的SU-8显影剂一起用于浸渍,喷涂或喷浆工艺。 也可以使用其他基于溶剂的显影剂,例如乳酸乙酯和双丙酮醇。 对于高纵横比和/或厚膜结构,也建议强烈搅拌。 表6中给出了浸入过程的建议显影时间。这些显影时间是近似的,因为实际溶解速度会随着搅拌而变化很大。

SU-8 3000具有良好的机械性能。 但是,对于要保留成像的抗蚀剂作为终设备一部分的应用,可以在加热板上或对流烤箱中在150-200°C之间将抗蚀剂进行坡道/分步硬烘烤,以进一步使材料交联。 烘烤时间根据烘烤过程的类型和膜厚的不同而不同。

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产品参数

供货周期 一个月
规格 100ML,250ML,500ML,1L
应用领域 电子
主要用途 出色的抗干蚀刻性,降低涂层应力,提高附着力
企业未开通此功能
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