- 面议
参考价：
起订量：
2035/2050/2075/2100 光刻胶SU-8 2000
- 型号
- 2035/2050/2075/2100
该企业相似产品
匀胶机，光刻机，显影机，等离子清洗机，紫外臭氧清洗机，紫外固化箱，压片机，等离子去胶机，刻蚀机，加热板
半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
详细信息
为了获得大的过程可靠性，在涂覆SU-8 2000抗蚀剂之前，基材应清洁干燥。 为了获得很好的结果，应使用食人鱼湿法蚀刻（使用H2SO4和H2O2）清洁基材，然后用去离子水冲洗。
基材也可以使用反应离子蚀刻进行清洁
（RIE）或任何装有氧气的桶式灰烬。 通常不需要粘合促进剂。 对于包括电镀的应用，建议使用MCC Primer 80/20（HMDS）对基材进行预处理。
涂层
SU-8 2000抗蚀剂有十二种标准粘度。 本加工指南文件涉及四种产品：SU-8 2025，SU-8 2035，SU-8 2050和SU-82075。图1。
提供选择合适的SU-8 2000抗蚀剂和旋转条件以实现所需膜厚所需的信息。
推荐节目
1.）为基板直径的每英寸（25毫米）分配1ml的抗蚀剂。
2.）以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋转5-10秒。
3.）以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋转30秒。
