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GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪

型号
参数
产地类别:国产 应用领域:电气
深圳市科晶智达科技有限公司

中级会员7年 

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电池研发实验设备(扣式电池,软包电池,圆柱电池)

    深圳市科晶智达科技有限公司2001年成立于深圳,是一家聚焦服务于高校、研究院所、企业研发部门的国家技术企业,长期致力于打造安全、高效、智能的实验研发一站式服务平台,为科学研究与产业孵化赋能。
    深圳科晶与美国MTI、合肥科晶、沈阳科晶同属MTI-科晶联盟,目前已经搭建辐射的服务网络,精心为科学家们的实验室提供交钥匙工程解决方案。


    深圳科晶创立初期主要为半导体、精密光学器件提供洁净存储和安全转移所使用的包装制品,产品包括各种塑料胶盒、膜盒、晶圆盒、海绵盒、花篮等。


    公司2008年开始进行材料相关研发设备和锂电池实验设备的开发,经过十多年的积累深圳科晶现已成为新能源和新材料基础研究、小试与中试、测试与评估的整体解决方案规划者和提供者,产品应用涵盖了石墨烯材料、*陶瓷、*纳米材料、锂离子电池、超级电容器、燃料电池、固态电池、钙钛矿太阳能电池、功能薄膜等方向。
    主要产品系列:按应用与工艺更新产品系列
    •  材料基础研究实验装备(包括混料、涂覆、镀膜、压制、烧结、切割、研磨、抛光、粉碎、制粉、造粒、熔炼等);
    •  电池研发实验制备装备(包括锂离子电池、固态电池、超级电容器、金属空气电池、钠离子电池、液流电池、太阳能电池等制备方案);
    •  电池安全测试装备(符合GB31241 、GB31485、IEC62133、UN38.3等国内标准等);
    •  锂离子电池中、小试生产制备全流程系统装备方案,交钥匙工程(包括扣式、柱状、软包、方形铝壳等各种全电池制备方案);
    •  燃料电池研发实验制备装备(包括固体氧化物、质子交换膜燃料电池等制备方案);
    •  钙钛矿太阳能电池研发实验制备;
    •  功能薄膜研发实验设备(包括混料、涂布、辊压/复合、分切、复卷等);
    •  高通量材料基因组实验设备(包括配液、配粉、混合分散、压片、烧结、测试表征等);
   

公司设立了开放的研发实验室和设备体验中心。对于锂电池行业,可实现公斤级别材料制备及电池研发,能接受上门小批量材料验证、定向工艺研究及小量成品电池制备等研发工作。


    深圳科晶强大的研发团队支撑了丰富的产品链,针对现有产品具有*知识产权的发明和实用新型共40多项(包含PCT和国内发明),并参与行业多项标准制定且获得多个行业协会认可。


    本着“精诚合作、创新共赢”的宗旨,深圳科晶先后与清华大学、南开大学、上海交通大学、深圳大学、中航发航材院、溧阳天目湖研究院等十多个高校机构和企业签署产学研合作。与此同时,深圳科晶设立了对外服务的公共试验平台,承接科研人员参观交流与现场测试体验,配备行业资深的售前技术人员协助研究者充分了解相关工艺和设备,缩短调研考察与决策时间。该实验室平台也可以承接相关工艺试验服务和培训咨询服务,协助细分领域的科研工作者快速掌握产业工艺,从而专注前沿研发。

材料科学是基础科学。纵观人类科技的发展历史,新型材料的发现和应用将带来巨大的产业机遇,而*实验装备和仪器是为科研和应用保驾护航的重要保障。科晶团队将一如既往秉承“客户为本,技术为导,诚信为基,积极创新”的运营理念 ,竭力为科学研究和科技发展做出贡献。


详细信息

GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪

是一款小型温控型蒸发镀膜仪,内部设有4个蒸发坩埚,且每个蒸发坩埚都带有挡板,

最多可放置4种不同的蒸发物料,可在同一气氛下依次镀膜,实现多层膜的沉积工艺。可程序控温,

控温范围200-1500℃(选用B型热电偶:1200℃-1700℃),样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,

可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

 性能指标和基本配置
产品结构

● 石英真空腔体:280mm OD×260mm ID×310mm H,易清洗和放入样品
● 安装有一个2英寸的样品台,并且样品台可以旋转,使所制薄膜达到更好的均匀性
● 采用钨丝篮作为发热源,最高温度可达到1700℃,并且配用专用氧化铝舟,可装入样品(仅1600℃以下使用,若蒸发温度大于1600℃,样品应直接放在钨丝篮中)
● 精确控温:可设置30段升降温程序,控温精度为+/-1℃
● 真空度:10-5Torr(如采用分子泵系统)
● 进气系统可实现腔体的清洗和反应蒸发镀膜
image.png

工作电源

● 电压:AC220V,50/60Hz,单相
● 功率:1200W,最大电流为30A
● 4蒸发坩埚,每个容积为3mL。四坩埚可依次进行蒸发,实现多层膜沉积工艺(不能同时蒸发)
● 采用钨丝篮作为发热源,并且配有专用的氧化铝坩埚,热电偶安装在坩埚底部,以便于温度测量和控制(如图1)
● 标准采用S型热偶:工作温度为200℃-1500℃(图2)
● 可选B型热电偶:工作温度为1200℃-1700℃
● 安装有一个数显的温度控制器:可设置30段升降温程序,控温精度为+/- 1ºC(如图3)
● 也可将仪器转换到手动调节接状态,内部不安装热电偶,直接采用手动调节输出电流大小,发热源温度可高达2000℃,可实现对样品镀碳等实验(图4)
● 仪器中配备4个蒸发坩埚,每个坩埚均配有2个钨丝蓝加热元件
    image.png                                                                                                                   

样品台

● 仪器顶部安装有样品台,直径为Φ50mm
● 样品台可旋转
● 样品台和蒸发源之间的距离可以调节,调节范围为:40mm-85mm
image.png

样品厚度监测(可选)

● 腔室内可安装精密的薄膜测厚仪,可点击图1&图2查看详情。测厚精度可达0.10 Å。测厚仪LED显示可实现:
● 根据数据库,输入涂层信息
● 显示镀膜总厚度以及镀膜速度
● 可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD,用于薄膜厚度的检测,点击图3查看详情
  image.png

真空系统(选配)

● 设备上有一KF25接口用于连接真空泵
● 最高真空度可达4.0E-6 Torr(采用涡旋分子泵)
● 双极旋片真空泵或干泵,可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr
● 真空度达到10-2torr时,可蒸发一些贵金属,如金和铂,也可蒸发一些有机材料,可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10-5 to 1125 Torr.)
● 高真空度可达4.0E-6 Torr(采用涡旋分子泵),此时可蒸发对氧敏感的材料,如Al. Mg, Li,分子泵上带有复合真空计(最高可测量真空度为1.0E-7Torr)
● 可在本公司选购各种真空泵和真空计
 image.png

进气口

● 进气接口为1/4NPS,可向真空腔体中通入惰性气体,对腔体进行清洗,也可通入反应气体,进行反应蒸发镀膜
● 进气口安装有一针阀,用于调节进气流量

耗材

注:氧化铝坩埚以及钨丝蓝为耗材,可与本公司销售联系购买
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产品尺寸

● 总体尺寸:550mm L×550mm W×750mm H
● 石英腔体尺寸:280mm OD×260mm ID×310mm H
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产品重量80kg
应用注意事项

为了获得高真空度,可采用以下做法 :
● 使用前要检查密封圈和法兰上是否有异物或划痕,并用酒精擦洗
● 抽真空时,用外部加热装置将腔体烘烤到200℃,氧化铝坩埚预加热到500℃,保持2小时
● 使用温度高于1300℃时,保温时间不可大于1小时,否则会损坏密封圈
● 当腔体的各阀门关闭时,请勿开启升温程序或手动调节电流进行加热
● 当仪器正在蒸发材料时,不可打开泄气阀或关闭真空泵,只有当加热温度降至100℃时,才可放气或关闭真空泵
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认证

image.pngCE认证

保修期一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内
点击查看售后服务承诺书。

GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪

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    产地类别 国产
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