FISCHERSCOPE XUL

FISCHERSCOPE XULM

一款适合电镀厂测量镀层厚度的便宜耐用的仪器。

它配备了一个固定的准直器和滤片，射线管出射

点稍大，非常适合测量点在1mm以上的应用。低

能射线元件激发效率较低；但是对于标准的测量典

型电镀层厚度的应用，如Cr、Ni、Cu，没有任何问题。

多用途的镀层厚度测量仪。无论是薄的还是厚的镀层（如50 nm Au或100 μm Sn）都通过选择好的高压滤片组合很好地测量。微聚焦管可以达到在很短的测量距离内小到100 μm的测量点大小。高达数kcps的计数率可以被比例接收器接收到。

FISCHERSCOPE  XAN 110/120

FISCHERSCOPE  XAN

专门为分析金合金开发的划算的仪器。比较

XAN而言，只有一个固定的准直器和固定的

滤片，特别适合贵金属分析。XAN 110配备

比例接收器，适于几种合金元素的简单分析。

XAN 120配备了半导体接收器，更可以应用于

多元素的复杂分析。

分析仪器，测量方向从下到上。用途广泛。测量室全封闭，可以使用大准直器分析，高计数率也可以被硅漂移探测器处理。激发和辐射检测方式与XDV-SDD相同。它是金合金分析和塑料中有害物质痕量分析的理想仪器。

FISCHERSCOPE XDL

FISCHERSCOPE XDLM

适合镀层厚度测量的耐用仪器，即使大测量距

离也可以测量（DCM，范围0-80mm）。配

备一个固定的准直器和固定的滤片。适合测量

点在1mm以上的应用；跟XUL类似。可选用自

动测量的可编程工作台。

比XDL适用面更广，配备微聚焦管，4个可切换的准直器和3个基本滤片。测量头
与XULM相似；适合于测量小的结构如接插件触点或印刷线路板，也可以测量大的
工件（DCM，范围0-80 mm）。

FISCHERSCOPE  XDAL

FISCHERSCOPE  XDV-SDD

与XDLM类似但配备了半导体接收器。这样就可

能可以分析元素和测量超薄镀层（基于良好的信

噪比）。因为信号强度略低，不太适合测量较小的结构。

适合于全部应用的机型。根据测量点大小和光谱组成，激发方式灵活多样。配备了硅漂移接收器，即使强度高达>100kcps的信号也可以在不损失分辨率的情况下处理

FISCHERSCOPE  XDV-μ

FISCHERSCOPE 

于微观分析的测量仪器。根据X射线光学部件

的不同，可以分析小到100μm或更小的结构。强

度很高所以精度也非常好。即使很薄的镀层，测量

不确定性小于1nm也是可能的。仅适于测量空白或

接近空白的样品。

具备综合测量能力的通用机型。与XDV-XDD相当，但另外配备了可抽真空的测量室，这样就使得分析从原子序数Z=11（Na）开始的轻元素成为可能。高精度的马达驱动的XYZ平台和视频摄像头可以准确定位样品位置和测量细小部件