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日立高新离子研磨装置IM4000

型号
参数
产地类别:进口 价格区间:面议 应用领域:医疗卫生,食品,化工,建材,电子

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柜谷科技发展(上海)有限公司专注于为科研工作者和质量控制人员提供一站式实验室产品与配套服务,致力于成为科学服务领域的者与变革者。公司通过自主研发、品牌运营、品牌代理、实验室设计规划方案等方式为生物医药、新材料、新能源、化工化学、精细化工、食品日化、分析检测等领域的实验室提供多方位的综合服务,覆盖客户的研发准备、研发过程、研发后期、生产质控等各个阶段,提供“一站式”有竞争力的产品和服务,是国内的科学服务提供商。(本公司产品都用于实验室设备,不用于人体)

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我们的市场

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详细信息

日立高新离子研磨装置IM4000具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器!

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的混合模式带有两种研磨配置:
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨:将样品表面均匀研磨5平方毫米,从不同角度有选择地研磨,以便突出样品的表面特性

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的高通量能提高加工效率:与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间。(大加工率:硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000  )的可拆卸样品台装置:为便于样品设置和定义研磨边缘,可将样品台装置拆卸。
 

日立高新离子研磨装置IM4000​特点

混合模式:两种研磨配置
断面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察
平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性

高效:提高加工效率,与之前的E-3500型相比,采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(大加工速度:硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

可拆卸式样品台:为便于样品设置和边缘研磨,样品台设计为可拆卸型

规格

项目描述
断面加工台平面研磨台
气源氩气(Ar)
加速电压0-6Kv
大研磨速率﹡¹﹡²(硅材质)约300μm/h﹡¹﹡²

约20μm/h﹡³(点)

约2μm/h﹡⁴(面)

大样品尺寸20(W)×12(D)×7(H)mmΦ50×25(H)mm
样品移动范围X±7mm,Y0-+3mmX0-+5mm
旋转角度-1r/m,25r/m
摆动角度±15°,±30°,±40°±60°,±90°
倾斜-0-90°
气体流量控制系统流量调节器
排气系统涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时,135L/min,60Hz时,162L/min)
仪器外观尺寸616(W)×705(D)×312(H)mm
仪器重量主机48kg+机械泵28Kg
可选附件光学显微镜(用于观测研磨中的样品)

﹡¹:此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的大深度值

﹡²:此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值

﹡³:照射角度60°偏心值4mm

﹡⁴:照射角度0°偏心值0mm

 

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产品参数

产地类别 进口
价格区间 面议
应用领域 医疗卫生,食品,化工,建材,电子
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详询客服 : 0571-87858618
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