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Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000
柜谷科技发展（上海）有限公司专注于为科研工作者和质量控制人员提供一站式实验室产品与配套服务，致力于成为科学服务领域的变革者。公司通过自主研发、品牌运营、品牌代理、实验室设计规划方案等方式为生物医药、新材料、新能源、化工化学、精细化工、食品日化、分析检测等领域的实验室提供的综合服务，覆盖客户的研发准备、研发过程、研发后期、生产质控等各个阶段，提供“一站式”有竞争力的产品和服务，是国内的科学服务提供商。
为什么选择我们？
• 我们的服务是什么？
我们建立“安枕无忧”的售前、售后服务体系，提供信息咨询、技术支持和维保服务，为您的实验室运营保驾护航。
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我们整合一体化背景下的资源优势，为您提供专业、综合、合理的采购供应计划，节省运营成本。产品资源丰富，拥有众多代理权，如： Thermo Fisher、HAAKE、WIGGENS、Hitachi、Binder、Rigaku、Picarro等。
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我们的市场
高校 研究院
新能源 胶粘剂 石化 油漆涂料
制药 生命科学
详细信息
Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：
断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（大加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。
Hitachi日立高新离子研磨装置IM4000特点
混合模式：两种研磨配置
断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察
平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性
高效：提高加工效率，与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(大加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)
可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型
规格
| 项目 | 描述 | |
| 断面加工台 | 平面研磨台 | |
| 气源 | 氩气(Ar) | |
| 加速电压 | 0-6Kv | |
| 大研磨速率﹡¹﹡²（硅材质） | 约300μm/h﹡¹﹡² | 约20μm/h﹡³（点） 约2μm/h﹡⁴（面） |
| 大样品尺寸 | 20（W）×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
| 样品移动范围 | X±7mm,Y0－＋3mm | X0－＋5mm |
| 旋转角度 | - | 1r/m，25r/m |
| 摆动角度 | ±15°，±30°，±40° | ±60°，±90° |
| 倾斜 | - | 0-90° |
| 气体流量控制系统 | 流量调节器 | |
| 排气系统 | 涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时，135L/min,60Hz时，162L/min) | |
| 仪器外观尺寸 | 616（W）×705(D)×312(H)mm | |
| 仪器重量 | 主机48kg+机械泵28Kg | |
| 可选附件 | 光学显微镜（用于观测研磨中的样品） | |
﹡¹：此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的大深度值 ﹡²：此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值 ﹡³：照射角度60°偏心值4mm ﹡⁴:照射角度0°偏心值0mm
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