- 面议
起订量：
FR-Mic 全自动带显微镜多点测量膜厚仪
- 型号
- FR-Mic
该企业相似产品
岱美仪器技术服务（上海）有限公司（Dymek Company Ltd ，下面简称岱美）成立于1989年，是一间拥有多年经验的高科技设备分销商，主要为数据存储、半导体、光通讯、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持，并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今，岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国香港，中国大陆（上海、东莞、北京），中国台湾，泰国，菲律宾，马来西亚，越南及新加坡等地区。
岱美在中国大陆地区主要销售或提供技术支持的产品：
晶圆键合机、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、光学三维轮廓仪、硅穿孔TSV量测、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、主动及被动式防震台系统、应力检测仪、电容式位移传感器、定心仪等。
岱美重要合作伙伴包括有：
Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,
n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...
如有需要，请联系我们，了解我们如何开始与您之间的合作，实现您的企业或者组织机构长期发展的目标。
详细信息
硬化涂层膜厚仪是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案，要求的光斑尺寸小到几个微米，如微图案表面，粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台计算机控 制的XY工作台，使其快 速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。品牌属于Thetametrisis。
Thetametrisis利用 FR-Mic，通过紫外/ 可见/ 近红外可轻易对局部区域薄膜厚度，厚度映射，光学常数，反射率，折射率及消光系数进行测量。
【相关应用】
1.高校 & 研究所实验室
2.半导体制造
3.(氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻胶及其他半导体薄膜.)
4.MEMS 器件 (光刻胶, 硅膜等.)
5.LEDs, VCSELs
6.数据存储
7.阳极处理
8.曲面基底的硬镀及软镀
9.聚合物膜层, 粘合剂
10.生物医学(聚对二甲苯, 生 物膜/气泡壁厚度.)
11.还有许多…
【Thetametrisis膜厚仪特点】
1、实时光谱测量
2、薄膜厚度，光学特性，非均匀性测量， 厚度映射
3、使用集成的，USB连接高品质彩色摄像机进行成像
【Thetametrisis膜厚仪产品优势】
1、单击即可分析 (无需初始预测)
2、动态测量
3、包含光学参数 (n & k, color)
4、可保存测量演示视频录像
5、超过 600 种不同材料o 多个离线分析配套装置o 免费操作软件升级
【技术参数】
型号 | UV/VIS | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | DUV/NIR | VIS/NIR | DVIS/NIR | NIR | |
光谱波长范围(nm) | 200–850 | 200–1020 | 200-1100 | 200–1700 | 370–1020 | 370–1700 | 900–1700 | |
光谱仪像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648&512 | 3648 | 3648&512 | 512 | |
膜厚测量范围 | 5X-VIS/NIR | 15nm–60μm | 15nm–70μm | 15nm–90μm | 15nm–150μm | 15nm–90μm | 15nm–150μm | 100nm–150μm |
10X-VIS/NIR 10X-UV/NIR* | 4nm–50μm | 4nm–60μm | 4nm–80μm | 4nm–130μm | 15nm–80μm | 15nm–130μm | 100nm–130μm | |
15X-UV/NIR* | 4nm–40μm | 4nm–50μm | 4nm–50μm | 4nm–120μm | – | – | – | |
20X-VIS/NIR 20X-UV/NIR* | 4nm–25μm | 4nm–30μm | 4nm–30μm | 4nm–50μm | 15nm–30μm | 15nm–50μm | 100nm–50μm | |
40X-UV/NIR* | 4nm–4μm | 4nm–4μm | 4nm–5μm | 4nm–6μm | – | – | – | |
50X-VIS/NIR | – | – | – | – | 15nm–5μm | 15nm–5μm | 100nm–5μm | |
测量n&k蕞小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm | |
光源 | 氘灯&卤素灯(internal) | 卤素灯(internal) | ||||||
材料数据库 | >600不同材料 | |||||||
*测量面积(收集反射或透射信号的面积)与显微镜物镜和 FR-uProbe 的孔径大小有关。
物镜 | 光斑尺寸(μm) | ||
| 500μm孔径 | 250μm孔径 | 100μm孔径 |
5x | 100μm | 50μm | 20μm |
10x | 50μm | 25μm | 10μm |
20x | 25μm | 17μm | 5μm |
50x | 10μm | 5μm | 2μm |
【工作原理】
*规格如有更改，恕不另行通知, 测量结果与校准的光谱椭偏仪和 XRD 相比较, 连续 15 天测量的标准方差平均值。样品：1um SiO2 on Si., 100 次厚度测量的标准方差，样品：1um SiO2 on Si.
*超过 15 天的标准偏差日平均值样品：1um SiO2 on Si。
以上资料来自Thetametrisis，如果有需要更加详细的信息，请联系我们获取。
