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BTF-1200C-II-SSL-CVD 双独立温区滑轨炉CVD设备(可于生长硫化钼)

型号
BTF-1200C-II-SSL-CVD
参数
产地类别:进口 应用领域:电子,综合
安徽贝意克设备技术有限公司

高级会员4年 

生产厂家

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      安徽贝意克设备技术有限公司成立于2012年,基地位于安徽合肥,是一家集新材料设备研发、生产、销售与技术服务于一体的高科技企业。

      公司重视技术攻关和产品研发,建有超卓的产品研发中心,拥有一支由多名博士硕士组成的专业研发队伍,累计获得patent200余项。并通过产学研合作,与北京大学南开大学等多所院校建立联合实验室及研究生联合培养基地
      公司专注于新材料装备工艺开发及装备制造,产品门类涵盖了OLED材料提纯专用设备系列、碳材料制备设备系列、半导体专用设备系列及金属纳米颗粒设备系列四大类共十余个子类,与众多材料厂商、科研院校等保持长期合作关系,市场营销网络遍布全球各地。
      连年来,公司相继被认定为“高新技术企业”“专精特新企业““科技小巨人培育企业”“石墨烯生长设备工程技术研究中心”“瞪羚企业”“雏鹰企业”,并接连获得“中国隐形独角兽500强”“科技创新奖”“创新创业奖”等多项荣誉。

 

 

 

 

 

 

 

 

详细信息

双独立温区滑轨炉CVD设备(可于生长硫化钼)主要特点

1.此款设备提供两个独立滑动的温场,两温场独立控制,每个温场的加热区的长度为230mm,可在实验过程中推进或推离样品,提供两个位置的快升降温。

2.纵向多接口真空法兰设计,各种附加接口具有高度可扩展性。航空铝合金法兰支架外形美观,轻便坚固耐腐蚀,安装调节简便易学。避免传统钣金法兰支架的安装调节不便,在安装多种附件时容易导致法兰偏斜漏气甚至石英管意外破碎的情况。

3.同时法兰端采用卡箍密封,这样就使进料出料更加的方便。

4.采用触摸屏和工控电脑自动控制,参数设置和操作直观方便,参数自动记录保持。

5.进气系统可以按照客户的实验需求配置几路质量流量计,流量计的量程也可以选择不同的配置,真空系统也可以根据客户的需求选择配置各种真空泵。

 

双独立温区滑轨炉CVD设备(可于生长硫化钼)技术参数

双独立温场滑轨炉BTF-1200C-II-SSL

BTF-1200C-II-SSL-CVD

炉管尺寸:外径(50mm,60mm,80mm,100mm)可选
加热元件:电阻丝(Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo)
加热区长度:230mm+230mm
恒温区长度:80mm+80mm(±1℃)
工作温度:1100℃
最高温度:1200℃
控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能
控温精度:±1℃
升温速度:20度/分钟
炉门结构:开启式
工作电源:AC220V /50HZ
额定功率:4KW

供气系统

BTF-1200C-II-SSL-CVD

标准量程(N2):100sccm、200sccm、500sccm;
准确度:±1.5%
线性:±0.5~1.5%
重复精度:±0.2%
响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec
工作压差范围:0.1~0.5 MPa
最大压力:3MPa
连接头类型:双卡套不锈钢接头Φ6

低真空系统

BTF-1200C-II-SSL-CVD

空气相对湿度≤85%
工作电电压:220V±10%  50~60HZ
功率:1千瓦
  抽气速率:4L/s
  极限真空:4X10-2Pa
  实验真空度:1.0X10-1Pa


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产品参数

产地类别 进口
应用领域 电子,综合
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