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激光功率衰减器
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工艺设备：真空镀膜机；离子束刻蚀机，ICP刻蚀机，等
产品线丰富，元素分析:原子吸收,气相色谱，液相色谱，气质联用，紫外分光光度计等； 热分析：材料表面分析：原子力显微镜，光学轮廓仪，摩擦磨损等； 通用分析：扫描电镜，
实验室仪器
原子吸收光谱仪
近红外光谱仪
紫外分光光度计
电化学工作站
红外光谱仪
镀层测厚仪
数字显微镜
影像测量仪
Wafer 粗糙度检测
3D 轮廓仪
超景深显微镜
TTV 测试
扫描探针显微镜
台式扫描电镜
其他仪器：
四探针测试
离子减薄机
详细信息
激光功率衰减器
规格 | 衰减范围 | 损伤阈值 | 设计波长 |
手动 | 0,01 - 70% | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 200-300nm |
手动 | 0,01 - 70% | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 350-2300nm |
手动 | 0,1 - 98 % | 10 J/cm2(10 ns @ 1064 nm） | 1064nm |
手动 | 0,1 - 98 % | 10 J/cm2（10 ns @ 1064 nm） | 1030nm |
手动 | 0,1 - 98 % | 5 J/cm2（10 ns @ 532 nm） | 532nm |
手动 | 0,1 - 98 % | 5 J/cm2（10 ns @ 532 nm） | 515nm |
手动 | 0,2 - 96 % | 3 J/cm2（10 ns @ 355 nm） | 343nm |
手动 | 0,2 - 96 % | 3 J/cm2（10 ns @ 355 nm） | 355nm |
手动 | 0,5 - 95% | 2 J/cm2（10 ns @ 266 nm） | 266nm |
手动 | 0,5 - 95% | 2 J/cm2（10 ns @ 266 nm） | 257nm |
LPA | 0,1 - 98 % | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 1064 nm |
LPA | 0,1 - 98 % | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 1030 nm |
LPA | 0,1 - 98 % | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 532 nm |
LPA | 0,1 - 98 % | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 515 nm |
LPA | 0,2 - 96 % | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 355 nm |
LPA | 0,2 - 96 % | 3 J/cm2 (10 ns @ 355nm) | 343 nm |
LPA | 0,5 - 95% | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 257 nm |
LPA | 0,5 - 95% | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 266 nm |
LPA-Av2 | 0,1 - 98 % | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 1064 nm |
LPA-Av2 | 0,1 - 98 % | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 1030 nm |
LPA-Av2 | 0,2 - 96 % | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 355 nm |
LPA-Av2 | 0,1 - 98 % | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 532 nm |
LPA-Av2 | 0,1 - 98 % | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 515 nm |
LPA-Av2 | 0,2 - 96 % | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 343 nm |
LPA-Av2 | 0,5 - 95% | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 257 nm |
LPA-Av2 | 0,5 - 95% | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 266 nm |
LPA-Av2 | 0,5 - 95 % | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 515+1030 nm |
