目前在半导体技术领域中，科学家试图利用极微量的氧气对薄膜表面进行去毛刺工艺，如果氧气量过大，将可能把整个薄膜“吃掉”，氧气量小但不稳定，则影响到成品的品质和重复性。这对RTP在微量气体的混气控制上提出了极大的挑战。
　　实现常压下千分之一的气体分压。即反应气体和保护气氛的常压配比为1比1000。一般实现气体配比的方法是使用质量流量控制器（MFC），对两种气体的流量进行精确控制，例如配比为3：2时，两个质量流量计的流量分别调整为600sccm和400sccm，这时气体配比就可以实现3：2的配比。
 　但是，当两种气体的配比非常悬殊的时候，就产生两个问题，首先是大量程MFC的误差绝对值超过了小量程气体MFC本身的量，使得配比的重复性和精确度变差。即使使用进口的MFC也不能幸免。其次，由于一方气体流量过小，会使流量大的一方的气体阻止或倒灌到流量小的气路中，从而无法保证反应气体进入反应室内。
北京东之星应用物理研究所首先采用精确的压力控制使压力与流量有效的配合，同时委托MFC厂家以东之星*的送气控制方式定制了MFC。从而有效的防止了大配比气体（一般是氮气）的倒灌和阻塞。才实现了高精确度的千分之一气体配比。