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AT410 原子层沉积
- 型号
- AT410
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半导体化工领域专业实验设备供应商：迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商，迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务，帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定，尊重他们的决定，并协助他们实现高效率的科研成果，追求丰富有意义的生活。
详细信息
占地面积小的桌面系统，兼容无尘室。
占地面积小的桌面系统（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）
具有超快 MFC 的高温兼容快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。
4 英寸圆形卡盘可定制，适用于较小尺寸或其他形状（11 毫米高）。
3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。
整个加热管线（从前体到腔室）。
高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式
全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C
7″ 触摸屏 PLC 控制器（无需 PC）
包括终身软件升级
1 年保修（包括零件）
AT610
全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C
具有超快 MFC 的高温半导体级快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。
6″ 圆形卡盘（7″ 方形）可定制为更小的尺寸或其他形状（11 毫米高）。
流线型腔体设计，腔体体积小
3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。
前体可以加热到 150°C。
整个加热管线（从前体到腔室）。
简单的系统维护和市场上的公用事业和前体使用
高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式
7″ 触摸屏 PLC 控制器（无需 PC）
