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HWN-L1新型纳米激光直写系统

型号
参数
应用领域:化工 激光波长:405nm 特征尺寸:100nm 激光功率:120mW至300mW(可选) 芯片尺寸:1英寸 刻写范围:50mm×50mm?至?100mm×100?mm(可选)
苏州华维纳纳米科技有限公司

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无掩模纳米光刻系统,激光直写设备

公司简介:

   苏州华维纳纳米科技有限公司是在"苏州工业园区创业人才项目"的支持下,于2011年注册成立的高科技创新型公司,公司由归国和国内的高层次人才组成,公司设有博士后流动站。公司曾先后获得国家科技部(国家重大大科学仪器设备开发专项)和姑苏、江苏省双创人才、以及苏州x-nano大科学装置等项目支持,并于20126月 完成首轮风险融资,成功研发出拥有自主知识产权的三大系列新型纳米激光光刻系统,2015年被认定为高新技术企业。

公司近年来,不断加大研发力度,已经定型了LDW-P LDW-L两大系列新型激光直写设备,实现了激光直写设备的更新换代。该新型激光直写采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于各种受体材料,极大地扩展了激光直写设备的应用范围。





详细信息

HWN-L1新型纳米激光直写系统是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号,具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外,HWN-L1新型纳米激光直写系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源,以满足后续功能升级换代的需求,使产品具有更长的生命周期。

苏州华维纳纳米科技有限公司于2011年注册成立的高科技创新型公司,主要从事新型纳米光刻技术和无掩模纳米光刻机的研发和产业化工作。




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产品参数

应用领域 化工
激光波长 405nm
特征尺寸 100nm
激光功率 120mW至300mW(可选)
芯片尺寸 1英寸
刻写范围 50mm×50mm?至?100mm×100?mm(可选)
企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
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