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QBT-I 双腔室高真空高速蒸镀系统
- 型号
- QBT-I
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厦门韫茂科技有限公司成立于2018年，由硅谷海归团队创立，核心成员拥有超20年薄膜沉积工艺及设备开发产业化经验，2021年入选高新技术企业，2022年入选厦门专精特新技术企业，是一家以纳米级薄膜沉积工艺技术为核心的多领域全栈式薄膜沉积方案供应商，为客户提供全面的技术解决方案以及先进的纳米材料薄膜沉积装备，针对先进制造国产化的痛点，开发自主设备。
详细信息
一、双腔室高真空高速蒸镀系统核心参数：
价格区间：150万-200万
仪器种类：热蒸发镀膜机
产地类别：国产
应用领域：微电子学
基片尺寸：6寸（可定制）
靶材：铟单质
基片温度范围：-10-40℃
成膜厚度均匀性：<3%
极限真空：极限真空UltimatePressure<3E-8Torr
二、高速蒸镀系统产品详情：
上下双腔,集表面处理与蒸发镀膜为一体,高效可靠的Indium蒸镀助手。
三、厦门韫茂科技有限公司为您提供QBT-I双腔室高真空高速蒸镀系统的参数、价格、型号、原理等信息，QBT-I双产地为福建、品牌为韫茂，型号为QBT-I，价格为150万-200万RMB，更多相关信息可咨询，公司客服电话7*24小时为您服务。
四、厦门韫茂科技有限公司是一家以纳米级表面成膜和刻蚀技术为核心的高新技术企业，面向量子科学，*材料，半导体，超导等领域为客户提供方位的技术解决方案，帮助客户更高效的推动技术的探索与发展，公司形成以UHV超高真空镀膜装备，ALD原子层镀膜系统、半导体专用镀膜设备为核心的产品矩阵，助力中国的高科技技术和产业的发展。
五、技术参数：
六、测试结果：
