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激光光刻系统
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北京瑞科中仪科技有限公司专注半导体材料研究分析设备的研发和应用。专业的团队，专精的服务，提供理想的解决方案。
我们长期专注于半导体材料研究与分析设备的经销和代理，为高校、企业科研工作者提供专业的分析解决方案。以专业技能为导向，用科技来解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流，打消顾虑，彼此协作，为我国的科研领域谱写新篇章。
北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备，其中包括但不限于扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。
客户至上的服务理念，以人为本的企业文化，我们始终为用户提供专业的服务！
合作丨共赢，选择我们，选择未来！
详细信息
具有分辨率的直接激光刻录机
PICOMASTER 是一系列直接激光刻录机，可使用单个激光束创建高分辨率结构。这款多功能、低维护的激光刻录机可为特征和光栅周期提供分辨率。用户友好的 PICOMASTER 系列为您的激光光刻挑战提供了解决方案。
具有以下功能：
单聚焦光束写入策略
分辨率低至 0.3 μm
4096级灰度光刻
即使在具有挑战性的基材上也能进行专有自动对焦
最大 8” x 8” 暴露区域
无缝合曝光
PICOMASTER 直接激光刻录机为您的微加工需求提供解决方案。
提供 405 和 375 激光源，保证 300 nm 的分辨率，因此 PICOMASTER 直接激光刻录机可产生市场上最高分辨率。这些无掩模直接激光刻录机增强了科学和工业目的的创新实力，为光子器件、微电子、MEMS、3D 光刻、光学可变器件 (OVD)、衍射光学元件等领域的研发带来了机会。
PICOMASTER 是适合您实验室的工具：
P RECISION：即使对于精细剂量也能提供高精度激光功率控制，即使在具有挑战性的样品上也能自动对焦，并且具有对准精度
解决方案：为特征和光栅提供的分辨率，特征周期低至 300 nm 以下
优化：可以通过桌面或独立系统选择、适当的激光源波长和写入模式选择来针对任何类型的应用进行优化
轮廓分析：提供高达 4096 级的灰度功能，而不影响曝光速度，实现2.5D 抗蚀剂轮廓分析
易于使用：内部设计的对齐工具和强大的用户界面支持轻松的样品处理，方便处理最常见的文件格式
降低维护成本：通过免维护运动平台和长寿命光学模块（10,000 小时）实现平稳、快速且经济高效的维护，该模块易于更换，无需上门服务
特征
解决
< 300 纳米
灰度级别
4096
激光源
405 / 37
根据您的需求优化直接激光刻录机
PICOMASTER 直接激光刻录机在可配置的平台上工作，该平台可以根据您的应用或特定实验室条件进行优化，以满足您的需求。PICOMASTER 可以是桌面或独立系统，可以针对不同类型的抗蚀剂具有不同的激光波长，并且可以为各种应用提供不同的光斑尺寸。如果需要，它可以与环境稳定装置结合使用。
