美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源：NGI3000

LK-Technologies强大，流行的离子源设计用于通过离子溅射清洁表面，光束能量高达3 keV，典型离子电流高达30μA。该喷枪采用了一种新颖的气体喷射系统，该系统允许在典型的1×10 -6托的腔室压力下进行溅射。

离子源（英文名称：Ion source）是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的部件。

气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子，并被引出成束。根据不同的使用条件和用途，已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源。高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的，也有广泛的用途。新型重离子源的出现，使重离子的电荷态显著提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)。负离子源性能较好的有转荷型和溅射型两种。在一定条件下，基于气体放电过程的各种离子源，都能提供一定的负离子束流。

离子源是一门具有广泛应用领域的学科，在许多基础研究领域如原子物理、等离子化学、核物理等研究中，离子源都是十分重要的设备。

美国 IK-TECHNOLOGIES 离子源

气体注入系统避免了昂贵的差动泵送设备

低室压下的惰性气体溅射

宽离子束确保均匀溅射

与普通溅射清洁和ISS应用兼容

连续可调谐的电压从200 V到3 kV

带USB或以太网接口的数字控制电子设备