1 产品介绍

顶旭桌面光刻机/曝光机/，专为微米级图案制作而设计，旨在保障图形转移精度。设备采用紫外LED冷光源，结合双非球面石英透镜，可生成半角＜2°的平行光，相较传统接触式曝光机，其紧凑的体积将移形换影置于桌面之上，为操作提供了便利与精准。

该光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。紧随现代技术的步伐，桌面光刻机/曝光机的问世为微纳加工注入了新的活力，助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。

2. 技术参数

²  曝光光源：紫外LED

²  光源波长：365nm;

²  曝光面积：4英寸、6英寸可选；

²  曝光方式：单面接触式定时曝光；

²  曝光分辨率：2um；

²  曝光强度：30~120mW/cm²可调；

²  曝光不均匀性：≤5%；

²  光源平行性：≤2°；

²  光源寿命：≥20000h；

²  电源输入：AC220V±10V，50HZ

²  功率：250W

²  重量：约22kg

²  外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）

²  工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

3. 使用方法

接触式曝光机操作简单，易于上手，具体操作如下：

一、曝光前准备工作

1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。

2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。

二、曝光操作步骤

1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。

 （硅片放置载硅片槽内）

2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。

3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。

4、启动曝光：确认参数设定无误后，点击启动按钮，设备将开始进行曝光。

5、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。

6、曝光完成：曝光结束后，设备会发出提示，取出硅片和光刻板。

4. 日常维护

1、定期清理平行曝光机的载台，防止它们因积尘或灰尘而影响加工。

2、保持曝光机的表面清洁，防止灰尘和杂质进入设备内部。

5. 装箱清单

1、桌面微型紫外光刻机主机 1台

2、电源线 1根

3、高透4英寸玻璃 1片 （辅助菲林掩膜曝光使用）

4、用户操作说明书 1份

5、合格证 1份

6、保修卡 1份