UNIPOL-1210M型全自动金相磨抛系统，包含自动镶嵌、研磨抛光以及清洗单元，可以实现从镶嵌-取样-研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程，通过触摸屏操作可精确控制镶嵌到磨抛、清洗的所有参数，并能进行参数设定存档，并可一键启动程序，从而实现样品自动化操作的一致性。且镶嵌、磨抛、清洗单位均可以单独或搭配灵活使用，适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验，以及需要大批量制样的材料研究行业工作者。

• 全自动镶嵌+研磨拋光+清洗一次完成，节省人力。具有6个镶嵌工位，Max同时完成6个试样。

• 可单独使用镶嵌或磨抛单元，也可镶嵌/磨抛单元合并使用，灵活搭配。

• 镶嵌压力、温度、时间可任意调整，随材质的不同变化。

• 镶嵌完成后，自动抓取样品进行研磨拋光。过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫。

• 研磨时，气动单点加压样品，施力平均。

• 研磨时，研磨盘上盘和下盘转速可任意调整，具有低转速高扭力的特点，方便使用。

• 气压压力通过节流阀控制和调整，根据样品不同材质，任意调整所需压力。

• 配备多组滴料装置，搭配使用，灵活性高。

• 整机外壳钢板烤漆，耐用安全性高。

• 方便的触控式人机操作界面，具备可编程的软件系统及程序储存。

• 包含多种材料数据库，可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。

• 通过超声和高压水流实现对样品进行清洗，确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。