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参考价:¥300001200000/台

M+200-CC 晶圆清洗机

型号
M+200-CC
西安爱姆加半导体有限公司

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经营范围一般项目:半导体器件专用设备制造半导体器件专用设备销售:电工


机械专用设备制造:电子元器件制造:电子专用设备制造:集成电路芯片及产品制造:半导体分立器件制造,技术服务,技术开发,技术咨询,技术交流、技术转让、技术推广:电力电子元器件制造:机械零件、零部件加工:实验分析仪器制造;数控机床制造;配电开关控制设备制造;机械电气设备制造;工业自动控制系统装置制造;金属加工机械制遭;电工仪器仪表销售;机械电气设备销售;自然科学研究和试验发展:实验分析仪器销售;智能控制系统集成;五金产品零售:仪器仪表制造1仪器仪表钥售1金属材料销售;计算机软硬件及辅助设备零售:高品质合成橡胶销售;信息咨询服务(不含许可类信息咨询服务)专用设备制造(不含许可类专业设备制造),电子产品销售,札仪服务:生态环境监测及检测仪器仅表销售;机械设备销售;软件开发:信息技术咨询服务;机根设备租赁:五金产品批发:化工产品销售(不含许可类化工产品),橡胶制品钥售;橡胶制品制造;专用设备修理,电气设备修理,通用设备修理:翻泽服务;进出口代理,技术进出口,贸易经纪(赊依法领经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)。


详细信息

  • APM1#液去表面颗粒及金属杂质

  • HPM2#液去金属粒子

  • SPM3#,去污及部分金属

  • DHF去氧化层和金属粒

  • .适应方形基片尺寸:8×8inch基片 用途:可用于掩膜版表面污染物的清除。

  • 清洗方式:是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。

  • 配合常压水清洗

  • 高压水清洗

  • 兆声波清洗

  • 毛刷(Brush)清洗

  •  有机溶剂清洗等方式子水冲洗

清洗腔体材质:不锈钢材料的套件,腔体便于实现气液有效分离,提高了清洗的洁净度;拾取方式:上下载片采用手动; 掩膜板的固定方式:通过多点支撑、四角夹紧、机械安全限位的方式

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