$item.Name

首页>半导体行业专用仪器>湿法工艺设备>湿法腐蚀/刻蚀设备

参考价:¥50000200000/台

M+500-EE 铟丝抛光机

型号
M+500-EE
西安爱姆加半导体有限公司

免费会员 

生产厂家

该企业相似产品

晶圆清洗机

在线询价
匀胶机、显影剂

经营范围一般项目:半导体器件专用设备制造半导体器件专用设备销售:电工


机械专用设备制造:电子元器件制造:电子专用设备制造:集成电路芯片及产品制造:半导体分立器件制造,技术服务,技术开发,技术咨询,技术交流、技术转让、技术推广:电力电子元器件制造:机械零件、零部件加工:实验分析仪器制造;数控机床制造;配电开关控制设备制造;机械电气设备制造;工业自动控制系统装置制造;金属加工机械制遭;电工仪器仪表销售;机械电气设备销售;自然科学研究和试验发展:实验分析仪器销售;智能控制系统集成;五金产品零售:仪器仪表制造1仪器仪表钥售1金属材料销售;计算机软硬件及辅助设备零售:高品质合成橡胶销售;信息咨询服务(不含许可类信息咨询服务)专用设备制造(不含许可类专业设备制造),电子产品销售,札仪服务:生态环境监测及检测仪器仅表销售;机械设备销售;软件开发:信息技术咨询服务;机根设备租赁:五金产品批发:化工产品销售(不含许可类化工产品),橡胶制品钥售;橡胶制品制造;专用设备修理,电气设备修理,通用设备修理:翻泽服务;进出口代理,技术进出口,贸易经纪(赊依法领经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)。


详细信息

设备名称、数量

硝酸抛光清洗机   壹台

2.工艺参数

 1)处理对象:、铟环材料的抛光、清洗、脱水工艺(特制专用装夹工具);

 2)药液处理槽数量:共有三个清洗槽,分别为:硝配抛光槽、去离水的冲洗槽、酒精脱水槽;

用于IC生产及元器件生产中晶片的 湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去 除晶片表面的有机物、颗粒、金属 杂质、自然氧化层及石、塑料等附 件器皿的污染物。广泛用于抛光片、扩散前、CMP后、氧化前及光刻后等关键工艺的清洗

处理对象:、铟环材料的抛光、清洗、脱水

本设备主要用于激光陀螺仪及一些异形基片小孔的酸洗微晶玻璃零件的内孔,酸洗方式为将酸液通过密封管道沿零件表面的孔注射到零件的内腔中,并从内腔的另一端排出

相关技术文章

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

企业未开通此功能
详询客服 : 0571-87858618
提示

请选择您要拨打的电话:

当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :