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参考价:¥2000000

M+100-E 湿法腐蚀机

型号
M+100-E
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西安爱姆加半导体有限公司

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经营范围一般项目:半导体器件专用设备制造半导体器件专用设备销售:电工


机械专用设备制造:电子元器件制造:电子专用设备制造:集成电路芯片及产品制造:半导体分立器件制造,技术服务,技术开发,技术咨询,技术交流、技术转让、技术推广:电力电子元器件制造:机械零件、零部件加工:实验分析仪器制造;数控机床制造;配电开关控制设备制造;机械电气设备制造;工业自动控制系统装置制造;金属加工机械制遭;电工仪器仪表销售;机械电气设备销售;自然科学研究和试验发展:实验分析仪器销售;智能控制系统集成;五金产品零售:仪器仪表制造1仪器仪表钥售1金属材料销售;计算机软硬件及辅助设备零售:高品质合成橡胶销售;信息咨询服务(不含许可类信息咨询服务)专用设备制造(不含许可类专业设备制造),电子产品销售,札仪服务:生态环境监测及检测仪器仅表销售;机械设备销售;软件开发:信息技术咨询服务;机根设备租赁:五金产品批发:化工产品销售(不含许可类化工产品),橡胶制品钥售;橡胶制品制造;专用设备修理,电气设备修理,通用设备修理:翻泽服务;进出口代理,技术进出口,贸易经纪(赊依法领经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)。


详细信息

主要用途:

  用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石、塑料等附件器皿的污染物。广泛用于抛光片、扩散前、CMP后、氧化前及光刻后等关键工艺的清洗

型号:M+-E150


主要用途:

  用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石、塑


主要用途:

  用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石、塑料等附件器皿的污染物。广泛用于抛光片、扩散前、CMP后、氧化前及光刻后等关键工艺的清洗

型号:M+-E150


主要用途:

  用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石、塑


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