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透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM
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北京伊微视科技有限公司是一家专注于提供显微、膜厚测量以及光电测试设备的企业。
我们致力于为客户提供全面的显微设备，涵盖从毫米到纳米级别的多个领域。我们的产品线包括样品制备设备、体式显微镜、数码显微镜、金相显微镜、平面度测试仪、3D表面轮廓仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜以及透明晶圆缺陷扫描仪。
此外，我们还提供专业的薄膜测量设备，包括透明/半透明薄膜的反射光谱测量仪、用于纳米级别测量的椭偏仪，以及针对不透光金属镀膜的X荧光光谱测量仪。
在光电测量设备领域，我们正在不断拓展我们的产品线，已代理的产品包括Sinton的少子寿命测试和Fluxim测量软件。
尺有所短寸有所长，每一个品牌，每一台设备亦如此。在客户的需求上，提供解决方案，是我们服务的宗旨。我们不仅仅是设备的销售商，更是为客户提供解决方案的合作伙伴。
详细信息
简介：
透明晶圆缺陷扫描LuminaAT2-EFEM可以在2分钟内完成300毫米晶圆的扫描，对于基底上下表面的颗粒、凸起、凹陷、划痕、内含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半导体如氮化镓、砷化镓、碳化硅等样品上有的优势。也可用于薄膜涂层的成像厚度变化的全表面扫描。
样品300 x 300 mm。
厂商简介
Lumina Instruments，总部位于美国加利福尼亚州圣何塞，公司创始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷检测创新了更快速准确的方法，因此创建了革命性的仪器品牌lumina.
技术创新
将样片放入系统中，3~5分钟即可完成扫描。
收集的数据将被分析，图像和缺陷图将由LuminaSoft软件生成。
感兴趣的缺陷可在扫描电子显微镜（SEM）、椭偏仪、显微镜等上进行进一步分析。
将样品放入系统
直径为30微米的绿色激光以50毫米的直线运动，反射光和散射光由四个探测器捕获。
四通道检测
AT2-EFEM有四个检测通道。它们同时运行以生成四个独立的图像。每个通道有助于检测和分类某些缺陷。
极化：薄膜缺陷、污渍
反射率：划痕、内应力*、玻璃内的条纹*
坡度：划痕、凹坑、凸起、表面形貌
暗场：纳米颗粒、包裹体
透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM:采取的样品尺寸为300mm；光斑的大小在60μm也可以选择30或10μm；灵敏度在300nm理想；扫描时间在40/50/120s。
AT2应用案例：
l 内部缺陷：在融化阶段，玻璃内含有污染物
l 内应力：生产过程中玻璃内部形成的张力或折射率内部变化。
l 污渍：由于薄膜残留或清洗过程导致表面变色。
