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microArch® D0210 复合精度光固化3D打印系统
- 型号
- microArch® D0210
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摩方精密（BMF, Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发，提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案，同时，可结合不同材料及工艺，实现终端产品高效、低成本批量化生产及销售。
在科研领域，摩方自主研发的3D打印系统已被美国Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英国诺丁汉、德国德累斯顿工大、清华、北大、上海交大、浙江大学、南京大学、北航、西交大、中科大、华中科大、港中文、港城大、阿联酋哈里发大学、丹麦科技大学、德国于利希研究中心等众多全球顶级高校和科研机构使用。
在工业领域，作为专注于高精密增材制造领域的企业，摩方公司已和众多全球500强企业开展业务合作，包括GE医疗、Merck、美国强生、日本电装、安费诺、3M、泰科、华为、立讯、中石油等，产品广泛应用于连接器、内窥镜、医疗器械、消费电子、包装和通讯等行业。
详细信息
microArch® Dual 0210 系统简介
复合光学精度：2μm和10μm
打印幅面：100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H)
极限微尺度复合树脂增材制造设备
系统性能
光源：UV LED(405nm)
打印材料：光敏树脂
光学精度：2μm和10μm
打印层厚：5~40μm
打印样品尺寸
模式1：单投影模式-2μm: 5.432mm(L)×3.2mm(W)×50mm(H)
-10μm: 27.16mm(L)×16mm(W)×50mm(H)
模式2：拼接模式： 100mm(L)×100mm(W)×50mm(H)
模式3：重复阵列模式： 100 mm(L)×100mm(W)×50mm(H)
系统外形尺寸：1560mm(L)×1240mm(W)×1940mm(H)
重量：900KG
电气要求：220~240V/单相/50~60Hz（China）
特点优势
复合超高精度：光学精度2μm和10μm，智能识别特征细节，自动切换层间及层内精度；
跨尺度加工：2μm精度与100mm大福面融合，宏微一体化加工，高效实现小批量规模化生产；
激光测距系统：保证高精度调平，使于打印平台和离型膜调平；
高精密运动控制系统：XY运动轴的重复定位精度士0.2μm；
气浮平台：提高系统稳定性和打印质量；
自动水平调节系统：平台自动调平、膜面自动调平、滚刀自动调节三大系统，全面提升打印效率；
流平参数自动化：自动设置流平时间以及滚刀运作频率；
液槽加热系统：地域适配性广，兼容更多材料加工，满足多元化的应用场景。
