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首页>半导体行业专用仪器>热工艺设备/热处理设备>退火炉

RTP-3S01 RTP-3系列快速退火炉

型号
RTP-3S01
迈可诺技术有限公司

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TC-Wafer校准仪

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匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。



详细信息

快速退火炉(RTP,Rapid Thermal Processing)系列产品,采用红外辐射加热及冷壁技术,可实现对实验材料的快速升温和降温,同时搭配超高精度的温度控制系统,可达到很好的温场均匀性,对材料的快速热处理、快速退火、快速热氧化、快速热氮化及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。

RTP-3系列快速退火炉主要分为RTP-3-01、RTP-3-04、RTP-3-06、RTP-3-08、RTP-3-12等,分别能处理 1-12 寸样本。

应用功能
快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)
-离子注入/接触退火
-SiAu、SiAL、SiMo合金化
-太阳能电池片键合
-电阻烧结
-低介电材料热处理
-晶体化、致密化
-材料制备
提供可控压力环境并实现以上应用提供Vac、lG、02、Gas mixture等气氛环境

    RTP-3系列快速退火炉采用红外辐射加热及冷壁技术,可实现实验样品的快速升温和降温,完成特定条件下的热处理工艺。
支持多种配置选择,如可选择 SECS/GEM、1-4路气氛、自动开关门、灯光分区控制、PID 自动配置等:可实现炉壁温度监视、水冷异常监视、真空度监视、腔体压力监视等:
丰富的附件选择:碳化硅石墨托盘、石英样品托架、红外加热灯管、石英腔体 /板、TC-Wafer 校准仪等

 

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