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PHI Genesis 500 PHI X射线光电子能谱仪

型号
PHI Genesis 500
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参数
价格区间:面议 仪器种类:进口 应用领域:能源,电子
束蕴仪器(上海)有限公司

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PHI 硬X射线光电子能谱仪

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MicroCT,显微CT,微焦点CT,骨骼成像,显微CT材料学检测,微纳显微CT,X射线断层扫描,TOC,元素检测

束蕴仪器(上海)有限公司自成立以来,凭借与德国布鲁克(BRUKER)、衍射数据中心(ICDD)、德国Freiberg等实验室分析仪器品牌的战略合作,迅速成为业界仪器供应商。

我们拥有一支积极乐观,正直诚信的年轻团队,我们热忱的信仰科学,相信科学技术能为我们的客户带来高品质的生活,为社会的进步起到积极的促进作用。

束蕴仪器为各类客户提供优质的实验室和工业检测仪器及过程控制设备,专业的应用支持及完善的售后服务,在中国大陆的诸多领域拥有大量用户,如高校、科研院所、航空航天,政府组织、检验机构、及工业企业。产品覆盖了医药、生物、材料、考古、电子、食品等各个行业。

公司的宗旨:为客户量身打造合适的综合解决方案、技术支持和现场服务,优质的客户培训,快速及时的售后服务。

 

束蕴仪器,让世界更清晰!

主营仪器设备:

--高分辨X射线显微CT、多量程X射线纳米CT、X射线衍射仪、X射线荧光光谱仪、电子顺磁共振波谱仪          (ESR/EPR)、台式核磁共振波谱仪 TD-NMR、光学轮廓仪等 -- 德国布鲁克Bruker 授权代理商

--PDF衍射数据库、JADE软件--衍射数据中心(ICDD)授权代理商

--晶圆片寿命检测仪、在线晶圆片/晶锭点扫或面扫检测、晶圆片在线面扫检测仪、台式PID潜在诱导退化测试仪、释光测定仪等--德国Freiberg Instruments授权代理商

--BPCL化学发光仪--微光科技华东区总代理

 


 单位名称:束蕴仪器(上海)有限公司

详细地址:上海市松江区千帆路288弄G60科创云廊3号楼602室

 

 

 

 

 

详细信息

PHI Genesis 500是新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱,易操作式多功能选配附件,能够实现全自动样品传送停放,同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析,快速准确深度剖析,为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面的解决方案。

PHI X射线光电子能谱仪

关键技术

易操作式多功能选配附件

全自动样品传送停放

高性能大面积和微区XPS 分析

快速准确深度剖析

为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面解决方案 

简单易操作

PHI X射线光电子能谱仪提供了一种全新的用户体验,仪器高性能、全自动化、简单易操作。
操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数,同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影
像准确定位等功能。

PHI X射线光电子能谱仪

简单友好的用户界面

PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面,对于操作人员非常友好,操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。

多功能选配附件

原位的多功能自动化分析,涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术,相比于传统的XPS 而言,PHI GENESIS 体现了*的性能价值。

PHI X射线光电子能谱仪

优良解决方案:

高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。

PHI X射线光电子能谱仪

多数量样品大面积分析

把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内

可同时使用三个样品托

80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品

可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品

PHI X射线光电子能谱仪

可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑

在PHI GENESIS 中,聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像(SXI),利用二次电子影像可以进行导航、准确定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。

PHI X射线光电子能谱仪

大幅提升的二次电子影像(SXI)
二次电子影像(SXI)准确定位,保证了所见即所得。*的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。

PHI X射线光电子能谱仪快速深度剖析

PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子设备和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析,包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。

高性能的深度剖析能力

( 下图左) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li 界面的存在。
( 下图右) 在LiPON 膜沉积初期,可以看到氧从LiCoO2 层转移到LiPON 层中,使Co 在LoCoO2 层富Li 界面由氧化态还原为金属态。

PHI X射线光电子能谱仪

角分辨XPS 分析

PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的*性能。另外,样品倾斜和样品旋转相结合,可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。

PHI X射线光电子能谱仪

PHI X射线光电子能谱仪

应用领域

主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材
料及器件领域。
用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料,其研发依赖于化学结
构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线
光电子能谱仪,具有*性能、高自动化和灵活的扩展能力,可以满足客户的所有分析需求。

PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用

电池 (AES + Transfer Vessel)

“LiPON/LiCoO2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”
Li 基材料例如LiPON,对电子束辐照敏感。
PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流(300pA)下快速获取AES 化学成像。

PHI X射线光电子能谱仪

有机器件 (UPS / LEIPS + GCIB)

使用UPS/LEIPS 和Ar-GCIB 测量能带结构
(1)C60 薄膜表面
(2)C60 薄膜表面清洁后
(3)C60 薄膜/Au 界面
(4)Au 表面
通过UPS/LEIPS 分析和Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。

PHI X射线光电子能谱仪

半导体 (XPS + HAXPES)

半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成,它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息,例如栅极氧化膜下的GaN,使用HAXPES 是非常有必要的。

PHI X射线光电子能谱仪

微电子 (HAXPES)

微小焊锡点分析
HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于XPS 分析数据,这是由于Sn 球表面被氧化,随着深度的加深,金属态Sn的含量越高,正好符合HAXPES 分析深度比XPS 深的特点。

PHI X射线光电子能谱仪



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