磁控溅射镀膜的产品特点：

　　1.真空系统

　　真空腔体由标准的304不锈钢焊接而成，内部形状为长方体，其尺寸为600mm*600mm*700mm，电解抛光处理，减少内部材料放气现象。真空腔体上安装有电极，基片系统，真空系统，气路系统等部件；真空腔体配备两个可以打开的门，前门为移门，通过与直线导轨，滑块等装置连接，可使前门左右开启与关闭，后期也可以连接手套箱，在手套箱内部操作前门开关，确保整个工作环境处于氮气或惰性气体氛围中；后门旋转门，通过旋转轴实现后门的开关，开启后腔体内部暴露在空气中，主要的目的为维护检修，并配一个长方形观察窗，配合腔体外部照明灯，方便观察腔体内部状况。腔体侧面装有抽气主管道，分子泵，插板阀，真空计，充气阀，角阀等真空配件，在腔体洁净，无污染的情况下，极限真空5*10-5pa，四十分钟可达到大气至5*10-4pa，系统停泵关机12小时后，真空度≤5Pa。该系统可以在不停分子泵的前提下，对腔体内部材料添加、更换，也可以取放基片。

　　2.样品系统

　　该设备的样品架采用嵌入式结构，可搭载一片210mm*210mm基片，向下兼容，也可以搭载多片定制数量小基片；基片带冷却系统；掩模版到基片距离小于0.1mm。

　　样品架通过旋转轴，磁流体，联轴器，电机等装置连接，从而可实现0~30转/分钟。配备1套基片挡板系统，可以根据实际工作需求开启与关闭。

　　3.沉积系统

　　该系统配备4组蒸发源，可对金属，有机，无机物等材料进行蒸镀，每组蒸发源均配备冷却系统，4组蒸发源按照R-D-matin-ME系列舟蒸发源设计；源和源之间有隔板，防止交叉污染及隔绝一定温度辐射。

　　各个源均可通过继电器切换与一台可编程直流电源连接，电源设定为恒流模式，调节电流的大小来对蒸发源上的负载进行加热，（TDKGEN8-1801.5KW可编程直流电源，升温温度1500℃，精度0.1A）从而使得负载上的材料达到一定温度后发生蒸发现象。通过膜厚仪上的数据，可实时反馈出材料蒸发的速率（采用1台InficonSQC-3102通道膜厚仪，厚度和速率分辨率±0.015Å，速率显示0.01Å/s,可同时显示2个膜厚探头的读数），沉积厚度等信息。也可以通过编辑膜厚仪程序，到达自动蒸镀的效果。

　　4.控制系统

　　磁控溅射镀膜采用工控机控制系统，可实现自动一键式抽真空，也可以在手动模式下，控制机械泵、角阀、插板阀、分子泵的开启和停止，软件中含有各个电气设备的软件互锁和状态反馈，确保不会因误操作导致设备的损坏，还可以在手动模式下，控制基片旋转，挡板开关，电极的切换等一系列操作。速率控制模式可以设定蒸发材料的速率值，与膜厚仪中探头检测的实际值比较，通过速率控制PID模块调节加热电源的输出；通过膜厚仪与工控机串口通讯，将蒸发速率、蒸镀膜厚和输出功率一同在软件中实时显示，方便操作人员监测实验过程；登陆软件需要用户名和密码，不同的用户名对应不同的操作权限，确保操作人员不会误操作到设备的参数设置