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microArch® S230A 摩方超高精度光固化3d打印机
- 型号
- microArch® S230A
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摩方精密（BMF, Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发，提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案，同时，可结合不同材料及工艺，实现终端产品高效、低成本批量化生产及销售。
在科研领域，摩方自主研发的3D打印系统已被美国Hughes Research Laboratories 、麻省理工、新加坡南洋理工、英国诺丁汉、德国德累斯顿工大、清华、北大、上海交大、浙江大学、南京大学、北航、西交大、中科大、华中科大、港中文、港城大、阿联酋哈里发大学、丹麦科技大学、德国于利希研究中心等众多全球顶级高校和科研机构使用。
在工业领域，作为专注于高精密增材制造领域的企业，摩方公司已和众多全球500强企业开展业务合作，包括GE医疗、Merck、美国强生、日本电装、安费诺、3M、泰科、华为、立讯、中石油等，产品广泛应用于连接器、内窥镜、医疗器械、消费电子、包装和通讯等行业。
详细信息
microArch® S230 系统简介
光学精度：2μm；
打印幅面：50×50mm；
极限微尺度复合树脂增材制造设备。
系统性能
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：光敏树脂
光学精度：2μm
打印层厚：5~20μm
打印样品尺寸：
模式1：单投影模式：3.84mm(L)×2.16mm(W)×50mm(H)
模式2：拼接模式：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)
模式3：重复阵列模式：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)
打印文件格式：STL
系统外形尺寸：1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)
重量：660kg
电气要求：220~240V AC,50/60HZ,2KW
设备特点优势
超高精度：光学精度高达2μm；
配置激光测距，便于打印平台和离型膜的调平；
配置滚刀，用于打印材料快速流平，且支持打印高黏度树脂；
配备高精密运动控制系统，XYZ运动轴的重复定位精度±0.2μm；
工业级的设备标准，易操作，易维护；
配置气浮平台，提高打印质量；
优良的光源稳定性；
配套量身定制的打印软件、切片软件。
