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RIE反应离子刻蚀机
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公司主要销售实验室仪器仪表、实验室仪器设备、散热材料、增材制造设备、电气设备、电子产品、通讯器材、机械配件、通讯器材、电脑软硬件、机械配件、非标自动化设备、五金工具、实验耗材和试剂（不含危险化学品）、激光仪器及辅助设备；
电气设备、信息系统设计、集成；工程管理服务；单晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳纳米管技术开发、技术转让和检验检测服务；
计算机软硬件及辅助设备、信息系统软件、非标自动化设备的租赁和维修；
销售医疗器械、文化办公用品、五金交电、机械设备、监控设备、建筑材料、装饰材料、办公室用品；第二类医疗器械经营、第三类医疗器械经营；依托进口核心产品做研发：
团队是由深圳大学从事材料，光学，生物团队组成，目前核心创始人3位，分别负责材料，生物和光电领域，分别提供相应配套设施以及技术解决方案等；业务目前主要覆盖东莞，深圳，惠州，广州等整个广东地区，可快速抵达广东所在区域提供技术支持和服务。
目前典型服务客户有：清华大学深圳国际研究生院，哈尔滨工业大学（深圳），南方科技大学，深圳大学，深圳技术大学，北京大学深圳研究生院，松山湖材料实验室，大湾区大学（筹），东莞理工学院，中山大学，暨南大学，华南理工大学，广东工业大学等
详细信息
一、产品介绍：
CIF推出RIE反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学，科研院所、微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。具体包括：
u 介电材料（SiO2、SiNx等）
u 硅基材料（Si，a-Si，poly Si）
u III-V材料（GaAs、InP、GaN等）
u 溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W等）
u 类金刚石（DLC）
二、产品特点
u 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化用户操作界面显示，自动监测工艺参数状态，20个配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。
u PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。
u 真空舱体、全真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。
u 采用防腐数字流量计，实现对气体输入精准控制。标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。
u 采用花洒式多孔进气方式，改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。
u HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。
u 符合人体功能学的60度倾角操作界面设计，操作方便，界面友好。
u 采用顶置真空仓，上开盖设计，下压式铰链开关方式。
u 上置式360度水平取放样品设计，符合人体功能学，操作更方便。
u 有效处理面积大，可处理直径200mm晶元硅片。
u 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。
三、技术参数
型号 | RIE200 | RIE200plus |
舱体内尺寸 | H38xΦ260mm | H38xΦ260mm |
舱体容积 | 2L | 2L |
射频电源 | 40KHz | 13.56MHz |
电极 | 不锈钢气浴RIE电极，Φ200mm | 不锈钢气浴RIE电极，Φ200mm |
匹配器 | 自动匹配 | 自动匹配 |
刻蚀方式 | RIE | RIE |
射频功率 | 10-300W可调（可选10-1000W） | 10-300W可调（可选10-600W） |
气体控制 | 质量流量计（MFC）（标配双路，可选多路）流量范围0-500SCCM（可调） | |
工艺气体 | Ar、N₂、O₂、H₂、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合气体等（可选） | |
处理尺寸 | ≤Φ200mm | |
时间设定 | 1-99分59秒 | |
真空泵 | 抽速约8m3/h | |
气体稳定时间 | 1分钟 | |
极限真空 | ≤1Pa | |
电源 | AC220V 50-60Hz，所有配线符合《低压配电设计规范GB50054-95》、《低压配电装置及线路设计规范》等国标标准相关规定。 | |
