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Plasma Process Cluster 多腔等离子体工艺系统
中级会员第1年
代理商公司主要销售实验室仪器仪表、实验室仪器设备、散热材料、增材制造设备、电气设备、电子产品、通讯器材、机械配件、通讯器材、电脑软硬件、机械配件、非标自动化设备、五金工具、实验耗材和试剂(不含危险化学品)、激光仪器及辅助设备;
电气设备、信息系统设计、集成;工程管理服务;单晶硅、碳化硅、立方氮化硼、石墨烯、石墨炔、碳纳米管技术开发、技术转让和检验检测服务;
计算机软硬件及辅助设备、信息系统软件、非标自动化设备的租赁和维修;
销售医疗器械、文化办公用品、五金交电、机械设备、监控设备、建筑材料、装饰材料、办公室用品;第二类医疗器械经营、第三类医疗器械经营;依托进口核心产品做研发:
团队是由深圳大学从事材料,光学,生物团队组成,目前核心创始人3位,分别负责材料,生物和光电领域,分别提供相应配套设施以及技术解决方案等;业务目前主要覆盖东莞,深圳,惠州,广州等整个广东地区,可快速抵达广东所在区域提供技术支持和服务。
目前典型服务客户有:清华大学深圳国际研究生院,哈尔滨工业大学(深圳),南方科技大学,深圳大学,深圳技术大学,北京大学深圳研究生院,松山湖材料实验室,大湾区大学(筹),东莞理工学院,中山大学,暨南大学,华南理工大学,广东工业大学等
l 方案是适用于 8 吋晶圆的多腔等离子体沉积/刻蚀工艺系统
l 系统可用于研发和小批量生产
l 系统兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圆和不规则碎片;不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的开腔破真空
l 系统包括:
一个六端口的转接腔、带机械手
六个端口分别连接:
(1)一个 ALE 刻蚀腔模块:用于 Al2O3, AlGaN, GaN 等的原子层刻蚀
(2)一个ICPECVD 沉积腔模块:用于沉积氧化硅、氮化硅、氮氧硅等介质膜
(3)一个低温 ICP-RIE 刻蚀腔模块:配氟基气体,主要用于低温深硅刻蚀、常温锗刻蚀等
(4)一个 loadlock 预真空室模块:用于单片样品的手动送样
(5)一个真空片盒站模块:用于多片片盒的自动送样
(6)一个端口备用,未来可升级增加 1 个刻蚀或沉积反应腔模块