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Obducat纳米压印光刻工具EITRE 3

型号
参数
产地类别:进口 应用领域:电子,电气
天津瑞利光电科技有限公司

初级会员2年 

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光电设备、光学仪器、机电设备及配件、电气成套设备、工业自动化控制设备、电子设备、智能设备、通讯设备、仪器仪表、实验室设备、五金交电、电线电缆、环保设备、汽车配件、工艺品、办公用品的销售;自营和代理货物及技术的进出口业务;光电设备安装、调试及检修

天津瑞利光电科技有限公司注册地址位于天津市和平区南营门街南京路235号河川大厦A座22B-1,注册机关为天津市和平区市场监督管理局,法人代表为陆兆航,经营范围包括光电技术开发、技术咨询、技术转让、技术服务;光电设备、光学仪器、机电设备及配件、电气成套设备、工业自动化控制设备、电子设备、智能设备、通讯设备、仪器仪表、实验室设备、五金交电、电线电缆、环保设备、汽车配件、工艺品、办公用品的销售;自营和代理货物及技术的进出口业务;光电设备安装、调试及检修(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)

详细信息

产品名称:Obducat纳米压印光刻工具EITRE 3

产品型号:EITRE 3

产品介绍

易于使用的半自动化经济型工具系列,适用于尺寸max 8“ x 8” 的基底,可在微米和纳米尺度上进行图案复制。EITRE 工具具有多种压印工艺能力和广泛的配置可能性,因此用途特别广泛。

性能特点

EITRE 纳米压印光刻(NIL)工具提供了一种半自动、经济实惠的光刻解决方案,可以在微米和纳米范围内复制图案。

EITRE 工具具有多种压印工艺能力和广泛的配置可能性,因此用途特别广泛。

易于使用的半自动工具,界面友好。

嵌入式 SoftPress 技术可确保对整个压印区域的残余层厚度进行控制,从而实现准确的图案转移和简单的下游工艺开发。

工具的灵活性允许使用多种压印工艺,如热压印、热NIL、UV NIL 和 Obducat  同步热压和 UV (STU) 工艺。

EITRE 工具适用于固态照明、微型光学和光子元件和生命科学设备、片上实验室、MEMS/NEMS 和半导体等应用领域的研究和开发。

全面积压印。

紫外线模块可配置为 50-400 mW/cm2 的基板级强度。

根据欧洲安全法规和 CE 标志设计。

技术参数

产地:瑞典

基底尺寸:≤ 78 mm Ø

压印压力(min):6-8 bar(取决于 CA 的入口压力)

压印压力(max):70 bar

压印温度(min):环境温度

压印温度(max):250°C(使用紫外模块时为 200°C)

压印温度设置:精度± 2 度

无尘室适用性:Class 100

室温:18-32°C

相对湿度:40 - 65%

电源:220-240 VAC,单相,接地,预熔丝至 16A,50/60 Hz,3 kVA

压缩空气:6 - 8 bar30 l / min

排气流量:1000 - 2000 l / min

尺寸(长 x 宽 x 高):80 x 60 x 180 厘米

重量:约250 千克


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产品参数

产地类别 进口
应用领域 电子,电气
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