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Obducat纳米压印光刻工具EITRE 3
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产品名称:Obducat纳米压印光刻工具EITRE 3
产品型号:EITRE 3
产品介绍
易于使用的半自动化经济型工具系列,适用于尺寸(max)为 8“ x 8” 的基底,可在微米和纳米尺度上进行图案复制。EITRE 工具具有多种压印工艺能力和广泛的配置可能性,因此用途特别广泛。
性能特点
l EITRE 纳米压印光刻(NIL)工具提供了一种半自动、经济实惠的光刻解决方案,可以在微米和纳米范围内复制图案。
l EITRE 工具具有多种压印工艺能力和广泛的配置可能性,因此用途特别广泛。
l 易于使用的半自动工具,界面友好。
l 嵌入式 SoftPress 技术可确保对整个压印区域的残余层厚度进行控制,从而实现准确的图案转移和简单的下游工艺开发。
l 工具的灵活性允许使用多种压印工艺,如热压印、热NIL、UV NIL 和 Obducat 同步热压和 UV (STU) 工艺。
l EITRE 工具适用于固态照明、微型光学和光子元件和生命科学设备、片上实验室、MEMS/NEMS 和半导体等应用领域的研究和开发。
l 全面积的压印。
l 紫外线模块可配置为 50-400 mW/cm2 的基板级强度。
l 根据欧洲安全法规和 CE 标志设计。
技术参数
产地:瑞典
基底尺寸:≤ 78 mm Ø
压印压力(min):6-8 bar(取决于 CA 的入口压力)
压印压力(max):70 bar
压印温度(min):环境温度
压印温度(max):250°C(使用紫外模块时为 200°C)
压印温度设置:精度± 2 度
无尘室适用性:Class 100
室温:18-32°C
相对湿度:40 - 65%
电源:220-240 VAC,单相,接地,预熔丝至 16A,50/60 Hz,3 kVA
压缩空气:6 - 8 bar,30 l / min
排气流量:1000 - 2000 l / min
尺寸(长 x 宽 x 高):80 x 60 x 180 厘米
重量:约250 千克