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晶锭非接触方阻测试仪
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生产厂家公司成立于2021年,是一家注册在苏州、具备技术的非接触式半导体检测分析设备制造商。公司集研发、设计、制造、销售于一体,主要攻克国外垄断技术,替代进口产品,使半导体材料测试设备国产化。
主要产品:非接触式无损方块电阻测试仪、晶圆方阻测试仪、方阻测试仪、硅片电阻率测试仪、涡流法高低电阻率分析仪、晶锭电阻率分析仪、涡流法电阻率探头和PN探头测试仪、迁移率(霍尔)测试仪、少子寿命测试仪,晶圆、硅片厚度测试仪、表面光电压仪JPV\SPV、汞CV、ECV。为碳化硅、硅片、氮化镓、衬底和外延厂商提供测试和解决方案。
凭借*的技术和丰富的产品设计经验,申请各项知识产权20余项,已发展成为中国大陆少数具有一定国际竞争力的半导体专用设备提供商,产品得到众多国内外主流半导体厂商的认可,并取得良好的市场口碑。
晶锭非接触方阻测试仪介绍:
晶锭,也叫单晶硅棒,是一种纯度硅材料,在电子工业中被广泛应用。晶锭是一种长条状的半导体材料,通常采用Czochralski法或发明家贝尔曼的Float-Zone法制备,直径通常为200mm或300mm。方阻,全称是方块电阻(Sheet Resistance),指薄膜单位面积上的电阻,等于电阻率除以厚度,单位为Ω/□。方块电阻有一个特性,即任意大小的正方形边到边的电阻都是一样的,不管边长是1m还是1mm,它们的方阻都是一样。
对于硅材料,什么时候用电阻率,什么时候用方阻呢?
对硅晶圆或绝缘体上硅(SOI),规格书上通常用电阻率表征其基本电学参数。硅片一般分为高阻硅和低阻硅,高阻硅中的杂质浓度非常低,通常在1012cm-3以下,这使得高阻硅片的电阻率非常高,在103-106Ω·cm之间。相对于低阻硅,高阻硅的制造工艺极为难,电阻越高要求的硅的纯度越高,很多标称的高阻硅经过退火,电阻率都有一定程度的衰减。
方阻这个概念,主要是针对薄膜提出来的,它的提出使MEMS器件电学设计更为简便。它好比一个正方形方块积木,我们知道了方阻值,只要数出它的方块数(电阻的长除以宽),就很容易计算出总电阻。所以,方块和方阻的引入,极大了方便了设计和制造人员之间的沟通。对于多晶硅或者注入单晶硅,我们甚至不需要知道注入深度(结深),只需要测定方阻值,即可轻易完成电路部分的设计。
晶锭非接触方阻测试仪技术参数:
方阻(电阻率) | ||
测片 | 量程:5~400Ω/sq(0.1~6Ω·cm) | |
测锭 | 量程:0.03~1Ω·cm | |
厚度:~1.6mm | ||
采样率 | 60-1000SPS(1ms-16ms/点) | |
采样数据 | 上限400个点 | |
传输协议 | Modbus Rtu/ Modbus Tcp、用户自定义SOCKET协议等 | |
尺寸 | 探头:Ф20×136mm | 控制盒:173×130×55mm |
PN探头 | ||
采样率 | 60sps-500sps(2ms-16ms/点) | |
采样数据 | 上限200个点 | |
数据接口 | RS485/CAN/TCP SOCKET | |
尺寸 | Ф25×99mm | |
温度探头 | ||
范围 | -40℃~100℃ | |
精度 | ±1.5℃ | |
尺寸 | Ф12×85mm |