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EI系列 日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空沉积设备

型号
EI系列
参数
应用领域:医疗卫生,化工,制药,综合
玉崎科学仪器(深圳)有限公司

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详细信息

日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空沉积设备

日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空沉积设备


间歇式高真空蒸发设备EI系列

间歇式高真空蒸发设备ei系列是一种在基材上形成金属和氧化物薄膜的设备。排气作业及成膜作业可在操作面板的集中控制下自动进行,适合研究开发及小规模生产。


特征

  • 可配备各种蒸发源(EB、电阻、EB+电阻)

  • 根据工艺(升空、行星、卫星等)的基材支架

  • 兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。

  • 液晶触摸屏集中显示和操作

  • 使用 PC 的出色操作性和功能(配方功能、数据记录、维护辅助功能)

目的

  • 功率器件等相关化合物

  • LED、LD、高速器件

  • 用于各种实验

  • 其他一般电子零件



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应用领域 医疗卫生,化工,制药,综合
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