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NLD-570 日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备研发
- 型号
- NLD-570
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日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备研发
日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备研发
NLD干法刻蚀设备研发NLD-570
研发用NLD干法蚀刻 NLD-570是ULVAC原创开发的使用磁中性线等离子体（NLD）的低压、低电子温度、高密度等离子体的干法蚀刻装置。
特征
与ICP法相比，NLD具有更低的压力、更高的密度和更低的电子温度等离子，因此适合加工石英、玻璃、晶体、LN、LT基板等。
耐热玻璃和硼硅酸盐玻璃等杂质较多的玻璃可以蚀刻出优异的形状和表面光滑度。
厚膜抗蚀剂还可用作石英和玻璃深蚀刻（100μm以上）的掩模。
可进行高速蚀刻（石英>1μm/min、Pyrex>0.8μm/min）
可以添加盒室。
目的
光学器件（衍射光栅、调制器、光波导、光开关等）、凹凸微透镜、光子晶体、流体路径（μ-TAS）创建等。
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