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URE-2000/17 紫外光刻机
- 型号
- URE-2000/17
电热板,电热消解,水循环
北京优仕锦科技发展有限公司致力于从事科研、设计、生产和销售的技术型企业，产品覆盖实验室，化工，医药等领域.是一家充满朝气与活力的年轻公司。公司致力于工业技术的Z前沿研发，并建立了全面质量管理体系，并通过国家机构的认证。在设计、生产与服务的全过程中严格贯彻执行ISO 9000-2001质量管理体系标准，
“顾客满意是我们永恒的追求！”是优仕锦公司的质量方针。我们深信：工业技术和信息化的发展与结合将会给我们的科技与生活带来巨大的甚至是革命性的改变，这是一项伟大的事业，因此我们专注于此。同时我们坚信：光凭*的技术和优良稳定的运作平台，并不足以代表赢得成功，顾客还需要更好的服务。因此我们以较好的“信息诚信服务”为企业发展宗旨。以技术*、市场标准、信誉*、服务*、为企业方针力图缔造一个*的服务平台。更进一步的站在客户的立场，以研究开发的姿态继续开发新的产品与服务。
优仕锦通过与*光电技术研究所,微电子研究所,半导体体所,国家纳米技术中心,*等所的技术合作，全面提升研发实力和工艺水平，建成符合现代化企业制度要求的创新型*。本公司一贯秉承以人为本的理念，开拓、创新、锐意进取，不断创新技术，为打造国内(优仕锦)而不懈努力!
企业目标：打造！中国！中国民族品牌！
企业精神：勤奋、务实、专业、高效、诚信、感恩
优仕锦——善于创新的思维、充满激情的态度和团队合作的精神
优仕锦——在充满激情的北京优仕锦中快速成长中，获得施展才华的舞台
优仕锦——在互联网逐渐普及、北京优仕锦伴随着的稳健发展，成就*企业
那么，无疑北京优仕锦是你Z适合的选择！
详细信息
URE-2000系列单面紫外光刻机（曝光机）
型号：U2000/17
简单介绍：光刻机：（英文名：Mask ALIGENER）又名曝光机,
URE-2000/17型光刻机技术性能与配置
该光刻机技术特征
1．光学系统：采用多点反射镜聚光和实现均匀照明，反射镜采用梯形反射镜，国内其他机型采用矩形反射镜，URE-2000/17具有更高的能量收集效率（Ф100mm范围内功率密度大于6mW/cm²）和照明均匀性（Ф100mm范围内均匀性可达±4%，国内同类一般低于±4%）。波长单一，光谱纯净。
2.照明光源汞灯:采用进口直流高压汞灯，光功率稳定。
3．操作十分方便：
（1）抽拉式掩模，同一块掩模多次曝，无须上下掩模。
（2）触摸开关操作，手感好，参数设置方便。
（3）数字设定曝光时间，倒计时曝光，曝光量可精确控制。
4．工艺适应性非常好，可适应的片子范围可达f10-f100mm的各种规则和不规则片,厚度可适应0.1mm—8mm。
掩模可适应2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸。这些所需的样片台和掩模吸盘均免费提供。国内同类大部分的样片台和掩模吸盘要么不能提供，要么收费提供。
5.对准显微镜：高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，既保证大视场又保证高倍率（zui大倍率可达700倍）并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储。国内同类采用两个简易的单筒显微镜+CCD，不能目视，既不方便两个视场观测对准标记，在保证高倍率时不能保证大视场，保证大视场则不能保证高倍率。
6． 附件：真空泵配置无油干泵，既无污染，噪音也小。
7．外型：漂亮
（1） 计算机色套红色，非常漂亮（是其它厂商无法比的）
（2） 80%以上零件采用防绣材料，其余材料采用表面处理方法。
（3） 人机操作十分舒适
（4） 气管、电线：走暗线（国内同类一般管线凌乱）
8.品牌优势，该光刻机型号占有zui大*，已经出口过6台，售后服务有保证。
二．主要技术参数l 曝光面积：Ф100mm；
1、分辨力：1.7mm（胶厚2mm的正胶）；
2、对准精度：±1mm；
3、掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm；
4、 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸；
5、样片尺寸：直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm（可扩展为15mm）；
该光刻机技术特征
1．光学系统：采用多点反射镜聚光和实现均匀照明，反射镜采用梯形反射镜，国内其他机型采用矩形反射镜，URE-2000/17具有更高的能量收集效率（Ф100mm范围内功率密度大于6mW/cm²）和照明均匀性（Ф100mm范围内均匀性可达±4%，国内同类一般低于±4%）。波长单一，光谱纯净。
2.照明光源汞灯:采用进口直流高压汞灯，光功率稳定。
3．操作十分方便：
（1）抽拉式掩模，同一块掩模多次曝，无须上下掩模。
（2）触摸开关操作，手感好，参数设置方便。
（3）数字设定曝光时间，倒计时曝光，曝光量可精确控制。
4．工艺适应性非常好，可适应的片子范围可达f10-f100mm的各种规则和不规则片,厚度可适应0.1mm—8mm。
掩模可适应2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸。这些所需的样片台和掩模吸盘均免费提供。国内同类大部分的样片台和掩模吸盘要么不能提供，要么收费提供。
5.对准显微镜：高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，既保证大视场又保证高倍率（zui大倍率可达700倍）并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储。国内同类采用两个简易的单筒显微镜+CCD，不能目视，既不方便两个视场观测对准标记，在保证高倍率时不能保证大视场，保证大视场则不能保证高倍率。
6． 附件：真空泵配置无油干泵，既无污染，噪音也小。
7．外型：漂亮
（1） 计算机色套红色，非常漂亮（是其它厂商无法比的）
（2） 80%以上零件采用防绣材料，其余材料采用表面处理方法。
（3） 人机操作十分舒适
（4） 气管、电线：走暗线（国内同类一般管线凌乱）
8.品牌优势，该光刻机型号占有zui大*，已经出口过6台，售后服务有保证。
二．主要技术参数l 曝光面积：Ф100mm；
1、分辨力：1.7mm（胶厚2mm的正胶）；
2、对准精度：±1mm；
3、掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm；
4、 掩模尺寸：2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸；
5、样片尺寸：直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm（可扩展为15mm）；
照明均匀性：±4%（Ф100mm范围）；
6、掩模相对于样片运动行程：X:±5mm; Y:±5mm; q: ±6度；
7、汞灯功率：200W（直流）；
8、曝光波长：365nm；
9 曝光能量密度：6mW/cm；l 曝光方式：定时（倒计时方式）。
6、掩模相对于样片运动行程：X:±5mm; Y:±5mm; q: ±6度；
7、汞灯功率：200W（直流）；
8、曝光波长：365nm；
9 曝光能量密度：6mW/cm；l 曝光方式：定时（倒计时方式）。
应用领域
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示、声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、
集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器、生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示、声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、
码盘刻划等
