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DS-2000/1.0 无掩模光刻机
- 型号
- DS-2000/1.0
电热板,电热消解,水循环
北京优仕锦科技发展有限公司致力于从事科研、设计、生产和销售的技术型企业，产品覆盖实验室，化工，医药等领域.是一家充满朝气与活力的年轻公司。公司致力于工业技术的Z前沿研发，并建立了全面质量管理体系，并通过国家机构的认证。在设计、生产与服务的全过程中严格贯彻执行ISO 9000-2001质量管理体系标准，
“顾客满意是我们永恒的追求！”是优仕锦公司的质量方针。我们深信：工业技术和信息化的发展与结合将会给我们的科技与生活带来巨大的甚至是革命性的改变，这是一项伟大的事业，因此我们专注于此。同时我们坚信：光凭*的技术和优良稳定的运作平台，并不足以代表赢得成功，顾客还需要更好的服务。因此我们以较好的“信息诚信服务”为企业发展宗旨。以技术*、市场标准、信誉*、服务*、为企业方针力图缔造一个*的服务平台。更进一步的站在客户的立场，以研究开发的姿态继续开发新的产品与服务。
优仕锦通过与*光电技术研究所,微电子研究所,半导体体所,国家纳米技术中心,*等所的技术合作，全面提升研发实力和工艺水平，建成符合现代化企业制度要求的创新型*。本公司一贯秉承以人为本的理念，开拓、创新、锐意进取，不断创新技术，为打造国内(优仕锦)而不懈努力!
企业目标：打造！中国！中国民族品牌！
企业精神：勤奋、务实、专业、高效、诚信、感恩
优仕锦——善于创新的思维、充满激情的态度和团队合作的精神
优仕锦——在充满激情的北京优仕锦中快速成长中，获得施展才华的舞台
优仕锦——在互联网逐渐普及、北京优仕锦伴随着的稳健发展，成就*企业
那么，无疑北京优仕锦是你Z适合的选择！
详细信息
无掩膜光刻机型号 DS-2000/1.0型
1．技术特征采用DMD作为数字掩模，像素1024×768
采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约14mm×10mm
采用技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，
可适应100mm×100mm基片。
2．技术参数
光源：350W球形汞灯（曝光谱线： i线）；
照明均匀性：±2%；物镜倍率：1倍
曝光场面积：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；
工件台运动定位精度：±1.5μm；
调焦台运动灵敏度：1μm；
调焦台运动行程：6mm 转动台行程：±6°以上
基片尺寸外径: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（长）×450mm（宽） ×830mm（高）
1．技术特征采用DMD作为数字掩模，像素1024×768
采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约14mm×10mm
采用技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。
采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，
可适应100mm×100mm基片。
2．技术参数
光源：350W球形汞灯（曝光谱线： i线）；
照明均匀性：±2%；物镜倍率：1倍
曝光场面积：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；
工件台运动定位精度：±1.5μm；
调焦台运动灵敏度：1μm；
调焦台运动行程：6mm 转动台行程：±6°以上
基片尺寸外径: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm--5mm
3．外形尺寸：840mm（长）×450mm（宽） ×830mm（高）
无掩模光刻机系统关键技术：曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等
