MA-1200 DNK大日本科研实验·研究用曝光设备

MA-1200 DNK大日本科研实验·研究用曝光设备

MA-1200 DNK大日本科研实验·研究用曝光设备

实验·研究用曝光设备

• 对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。

• 可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。

• 对应zui大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有*组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
• 实验·研究用曝光设备

  			MA-1200	MA-1400
  基板尺寸			Max 200 x 200mm ø4" ～ ø6"	Max 400 x 400mm
  光源			超高压水银灯 ：500W or 1kW	超高压水银灯 ：2kW or 3.5kW
  外观尺寸及重量	本体尺寸		W1240 x D1100 x H1725 mm	W1440 x D1590 x H1882 mm
  	本体重量		400kg	400kg(包含无尘机房)
  	光源重量		－	250kg
  选购项			无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

  ※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽