钙钛矿发光二极管自动涂膜机简单介绍:

狭缝式涂布试验机由山东安尼麦特仪器有限公司精心研制高精度精密型涂布试验机，本机主要应用于盖板玻璃的各种涂胶作业而开发设计的专用装置，同时也可以用于其他类似材料的涂布。本涂布试验机，底板采用微孔陶瓷吸附平台，同时采用非接触式狭缝式涂布头，通过进料压力，狭缝宽度调节，以及狭缝头与底板间隙三个因数控制湿膜厚度，同时软件系统增加了高度调节与反馈系统，大大提高了涂布精度与均匀性。

应用场景：针对微米级特别是纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。

涉及行业：包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池膜电极、电解水制氢膜电极、锂电池、各种活性催化剂、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED柔性穿戴器件、有机场效应晶体管,导电聚合物,纳米线和纳米管,二维材料,有机发光二极管和钙钛矿发光二极管、钙钛矿光伏电池、锂离子电池的电解质和电极、染色敏感性太阳能电池、电子皮肤等器件的制备。

 由于常规实验室涂布试验机，受到刮刀调节，底板平整度等的影响很难达到涂布纳米级膜，狭缝式涂布试验机，底板采用检验级大理石平台，同时采用非接触式狭缝式涂布头，通过进料压力，狭缝宽度调节，以及狭缝头与底板间隙三个因数控制湿膜厚度，同时软件系统增加了高度调节与反馈系统，大大提高了涂布精度与均匀性。在国内光学膜涂布实验室研发打样阶段得到了广泛的应用。

钙钛矿发光二极管自动涂膜机技术参数

1. 产品型号：    AT-XTB-3040A

2.涂布方式：狭缝式涂布头

3.涂布速度：1-30mm/s  任意设定

4.控制方式: 触摸屏

5.涂布湿膜厚度范围： 2-100um   （根据涂布速度和涂布液粘度涂布范围不同

6.干膜厚度范围：  50nm-1000nm  (根据固含量不同干膜厚度范围有偏差）

7.涂布固含量范围：1-70%

8.粘度范围：1-300CPS

9.均匀性：4-6%

10.涂布宽度范围：10-260mm

11.涂布头与底板距离调节精度：0.002mm

12.加热温度范围：室温-150度

13.加热板功率：2000w

14.涂布头产地：国产 （可以定制进口涂布头）

15. 气源压力：0.6MPa

16. 涂布头与底板间隙调节方式：手动调节/自动调节/自动调节带反馈（调节方式客户根据自己需要选配）

17. 试样加持方式：机械固定/吸附固定（客户根据自己需要选配）

18. 设备总功率：2500W

19.设备尺寸：750mmX400mmX450mm

20.涂布平台尺寸：300X300mm

21.电源电压：220V  50 Hz

产品特点

1.采用滚珠丝杠传动，运行平稳性更好

2.速度数字化可调，可以根据需要选择合适的速度.

3.高精度国产涂布头，加料方便，涂布精度高，均匀性好

4.采用检验级大理石平台，平整度好，可以达到微米级别。

5.触摸屏控制，自动化程度高，涂布距离可设定，有效保证了涂布试样的尺寸。