光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机、电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光刻技术。如今的世界是一个信息社会，而光刻技术是制造承载信息的载体的关键技术，具有不可替代的作用。

一、光刻技术的原理

光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机上紫外光源发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。

这就是光刻的作用，类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。

光刻技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光通过光掩膜版后作为图像信息载体，以光致抗蚀剂为中间媒介，实现图形的变换、转移和处理，然后把图像信息传递到晶片（主要指硅片）或介质层上的一种工艺。

广义上，光刻包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面：

1、光复印工艺：经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光致抗蚀剂薄层上。

2、刻蚀工艺：利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完quan一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺总是多次反复进行。例如，大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图形的全部传递。

二、紫外压印光刻技术（UV-NIL)

紫外压印工艺是将单体涂覆的衬底和透明印章装载到对准机中, 在真空环境下衬底和印章被固定在各自的卡盘上，当两者的光学对准完成后, 开始接触压印，透过印章的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。

与热压印技术相比, 紫外压印对环境要求更低, 仅在室温和低压力下就可进行。使用该技术能缩短生产周期, 同时减小印章磨损。由于工艺过程的需要, 制作紫外压印印章要求使用能被紫外线穿过的材料，如玻璃、石英等。