一、用途

　　光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。

　　二、工作原理

　　在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。

　　一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。

　　光刻机的结构：

　　1、测量台、曝光台：是承载硅片的工作台。

　　2、激光器：也就是光源，光刻机核心设备之一。

　　3、光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。

　　4、能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。

　　5、光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。

　　6、遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。

　　7、能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。

　　8、掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。

　　9、掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。

　　10、物镜：物镜用来补偿光学误差，并将线路图等比例缩小。

　　11、硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、notch。

　　12、内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。