EVG720 系统利用 EVG 创新的 SmartNIL 技术和材料专业知识，实现微米级和纳米级结构的大规模制造。EVG720 系统采用 SmartNIL 技术，能够在大面积上打印小至 40 nm* 的纳米结构，具有较大的吞吐量和较低的拥有成本，非常适合下一代微流控和光子器件（如衍射光学元件 （DOE））的批量生产。

*分辨率取决于工艺和模板

特点

· 具有复制保真度的批量验证印记技术

· 成熟的SmartNIL技术与多用途聚合物冲压技术®

· 集成压印，UV固化脱模，和工作印章制作

· 自动磁带到磁带处理加上半自动化的研发模式

· 可选的顶部对齐

· 可选的迷你环境

· 开放平台的所有商业可用的印记材料

· 从研发到生产的可扩展性

· 系统外壳，最佳的过程稳定性和可靠性

技术数据

晶圆直径（衬底尺寸）：75至150毫米

分辨率：≤ 40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

过程支持：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i-线）> 40mW/cm²

对齐：可选顶部对中

自动分离：支持

迷你环境和气候控制：可选

工作印章制作：支持