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这款多功能CMP抛光机是CMP研磨机和CMP精研机，它适合所有的科研和工业用途的材料抛光和材料研磨工作，是美国化学物理抛光技术的杰出代表。
这款多功能CMP抛光机采用超高质量制造，融入重型铸造工艺和灵活的驱动技术，确保较小的振动，因此可在各种样品的抛光领域获得较高精度的研磨抛光结果。
多功能CMP抛光机特点
重型中心轴承承受高达60kg负载
抛光片方便更换
砂浆容易去除清洗
模块化设计，易于维护
控制面板方便显示
多功能CMP抛光机技术参数
样品盘径：250-400mm
电力要求：240V，800W
直流电机
重量：70kg
尺寸： 660x650x250尺寸： 660x650x250
