光刻掩膜版photomask是微电子领域高精度光刻掩膜板,光罩、光掩模和X射线成像感光板,采用卤化银感光物质,也可用于同步加速器设备中的布拉格衍射X射线断层摄影和X射线放射成像,性能不低于Agfa（Millimask）和柯达HR-P,TE板。
感光物质寿命：12个月
成像观察寿命：18个月。
光刻掩膜版具有高分辨率，高耐久性和*异的乳剂层与玻璃基底的粘附性能,具有2.5微米的摄像分辨率。
光刻掩膜版标准尺寸***406×300mm,玻璃衬底厚度为2.5mm。 所有光刻掩膜版都配有防晕涂层,我们也可根据客户要求定制不同尺寸的掩膜版。
光刻掩膜版特性

订购规格：
63x63mm-30片/包
51x254mm-12片/包
76x76mm-30片/包
102x102mm-30片/包
102x127mm-25片/包
127x355mm-12片/包


63x63mm尺寸包装图

102x127mm规格的包装图

180x240mm及其以上尺寸包装图
处理和处理建议
使用深绿色滤光片（透射区域-530nm及以下）在间接非光化光中开封,加工。 加工溶液温度-20±2℃。 储存条件：湿度65％和12-15摄氏度。