纳米压印光刻机SMILE制作微光学器件的纳米压印光刻系统,也是晶圆级相机,图像传感器生产中所需的设备。纳米压印光刻机SMILE可在其掩模对准器平台上进行大面积图案化。
微图案化应用
光学定制的抗蚀剂以水坑的形式分布在表面上基板表面。通过移动与基板接触的基板抗蚀剂在基底之间径向扩散填充印章的3D图案。
最大晶圆尺寸：200mm
压印面积：200mm
结构分辨率：从mm级到<100nm
纳米图案化应用
柔性印模在中心弯曲，并与涂有抗蚀剂的基材接触。接触波径向延伸至基板的外边缘。作为最终结果步骤：抗蚀剂固化（例如通过UV照射）。然后将堆叠分离，并将图案的负片特征保留在基底上的抗蚀剂中需要精确的楔块误差补偿和间隙设置因此，压印光刻的关键因素。SUSS掩模对准器平台提供主动楔形误差采用压电线性电路的补偿系统致动器、高精度间隙测量系统和力检测器。这实现了精确的横向和轴向将印模对准基底。
最大晶圆尺寸：200mm
压印面积：200mm
结构分辨率：从mm级到<100nm
纳米压印光刻机亮点
+对抗蚀剂厚度和厚度的精确控制一致性
+任意衬底材料
+双面图案化能力
+高对准精度
+边缘处理或缓冲晶片以避免透镜
+翘曲晶片处理

纳米压印光刻机结果