应用工艺：

•改善表面亲水性

•表面清洗

•准备薄膜沉积

•表面处理

•紫外固化

•表面灭菌消毒

•去除表面单分子膜

•表面氧化

•清洗AFM / STM探针

•清洗光学元件

可清洗的基材示例：

•石英

•硅

•氧化硅

•氮化硅

•金

•镍

•铝

•砷化镓

•矾土

•玻璃

•不锈钢

可去除的污染物示例：

•光刻胶

•树脂

•人体皮肤油脂

•清洗溶剂的残留物

•塑料/硅片表面油渍

•助焊剂

产品特点：

•成本低；

•120x120mm样品台；

•Z大处理样品高度为14mm；

•抽屉式样品台，简单方便；                                

•样品台自安全联锁，防止对人身伤害；    

•LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”；

•60分钟计时器；

•高强度紫外线灯源；

•可控温的样品台；

•样品清洗无需溶剂；

•超净表面。

下图显示了UV臭氧处理对基材的影响，以改善表面亲水性。
 

水滴在OTS处理的硅基底(300纳米二氧化硅表面)上，经过紫外臭氧清洗处理前（左图）和处理后（右图）的效果对比。