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基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序，每套程序可以支持高达100个步骤的设定，带USB2.0的接口。包含Solaris GUI 软件，与微软Windows操作系统兼容。通过该软件，通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。
技术规格：
- 温度：1200摄氏度；
- 升温速率：150摄氏度/秒；
- 温控均匀性：±2.5℃设定温度；
- 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部区域加热；
- 处理时间：0.1秒至无*；
- 灯管数量及功率：13支，
- 腔体冷却：风冷方式；
- 衬底冷却：氮气吹扫；
- 工艺气路：MFC控制，多6路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；
型号 | Solaris 100 | Solaris 150 | Solaris 150UV | Solaris 200 | Solaris Eclipse |
处理大样品尺寸 | 100mm | 150mm | 150mm | 200mm | 200mm |
温度(℃) | 室温~1200℃/s | 室温~1200℃/s | 室温~1200℃/s | 室温~1200℃/s | 室温~1200℃/s |
工艺气体 | 1~4路 | 1~6路 | 1~6路 | 1~6路 |
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红外卤素灯 | 13支 | 21支 |
| 28支 |
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红外卤素灯冷却方式 | 风冷 | 风冷 | 风冷 | 风冷 | 风冷 |
温度控制 | PID数控 | PID数控 | PID数控 | PID数控 | PID数控 |
温度精度 | ±2℃ | ±2℃ | ±2℃ | ±2℃ | ±2℃ |
热电偶 | K型热电偶 | K型热电偶 | K型热电偶 | K型热电偶 | K型热电偶 |
臭氧功能 |
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| 有，蚀刻速率> 25-50A /min |
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机器外观 | 台式机 | 台式机 | 台式机 | 台式机 | 台式机 |
应用领域：
快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
硅化 (Silicidation);
扩散 (Diffusion);
化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
离子注入后退火 (Implant Annealing);
电极合金化 (Contact Alloying);
晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);
