光刻机分为半自动和全自动两大系列。MPEM系列是高精度的双向掩模对准器，在晶片的顶侧和底侧包括对准光学系统，因此可以与顶侧对准对顶侧表面进行接触，软接触和接近图案化。晶片底面上的图形。掩模和晶圆的准确对准可能是通过高分辨率光学系统实现的，该光学系统的顶部和底部均安装了对称排列的10X物镜。由于可以调成对的物镜之间的间隔，所以不规则形成的晶片也可以自由地对准。

MPEM-1600

MPEM-12M

MPEM-16M

光罩尺寸

多5英寸

多7英寸

多9英寸

晶圆尺寸

高达4英寸（无定形）

高达6英寸（无定形）

高达8英寸（无定形）

面罩架滑动

手动卡盘

面具运动

X =±3毫米，Y =±3毫米

接触

方法

软接触/硬接触/接近暴露

照明

250W超高压蒸气汞灯

500W超高压蒸气汞灯

照明不规则

±5％

有效接触面积

直径100毫米

直径150毫米

直径200毫米

解析度

3mµ L / S

对准

方法

目镜观察（精神领域系统）

9英寸视频

监控系统

物镜

10X两对（上/下）

目镜

NWF 10X（一对）

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总放大倍率

100倍

200倍

物镜分离

15〜90毫米

80〜140毫米

55〜184毫米

聚焦单元

手册

对准范围

X，Y =±4mmθ
=±22.5°

X，Y =±4mmθ
=±5°

对齐间隙

09〜99微米

对准精度

小于±5mm

实用工具

主机电源

100-220V AC，50 / 60Hz，15A（600W）

水银灯电源

100-220V AC，50 / 60Hz，15A（550W）

100-220V，50 / 60Hz，15A（1,100W）

氮气

0.4〜0.5兆帕

100-220V AC，50 / 60Hz，15A（1,100W）

真空压力

小于21.3kPa
（从大气压到-80kPa ）

尺寸（主机）

750（ 宽）x
820（深）x
1,700（高）mm

940（ 宽）x
860（
深）x 1,670（高）mm

1,200（ 宽）x
1,090（深）x
1,800（高）mm

净重

大约 450公斤

大约 550公斤

大约 700公斤

选件

NWF 15X目镜（一对）
9英寸电视监视器系统（黑白）

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MPEM-1600

MPEM-12M

MPEM-16M

（适用
于直径大为4英寸的晶片）

（适用
于直径大为6英寸的晶片）

（适用
于直径大为8英寸的晶片)