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全谱直读等离子体发射光谱仪
OES直读光谱仪介绍:
OES全谱真空型直读光谱仪器优势:
1、CCD/CMOS全谱光谱仪制造技术(数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术)、通道不受限制 ;
2、国内生产真空CCD/CMOS全谱技术光谱仪的制造商;
3、基体范围内通道改变、增加不需费用
4、升级多基体方便,无须变动增加硬件 ;
5、优良的数据稳定性,同一样品不同的时间段分析,可获得良好的数据一致性 ;
6、体积小、重量轻, 移动安装方便 ;
7、高集成度、高可靠性、高稳定性 ;
OES全谱真空型直读光谱分析主要特点:
1、可测定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;
2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用短的时间达到优的分析效果;
3、光学系统采用真空恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室,实现光路直通,消除了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性好;
4、特殊的光室结构设计,使真空室容积更小;
5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;
6、开放式的电极架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;
7、工作曲线采用国际标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除干扰;
8、HEPS数字化固态光源,适应各种不同材料 ;
9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;
10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;
11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气;
12、采用钨材料电极,电极使用寿命更长,并设计了电极自吹扫功能,清洁电极更加容易;
13、高性能DSP及ARM处理器,具有高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块 的运行状况;
14、仪器与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升级与仪器配置无关,使仪器具有更好的适用性;
15、核心器件全部原装,保证了仪器优秀品质。
OES落地式全谱直读光谱仪产品参数指标 | ||
光学系统-光学结构 | 帕邢-龙格结构 | |
光学系统-探测器 | 多块高性能线阵 | |
激发台 | ||
气 体 | 冲氩式 | |
氩气流量 | 激发时3-5L/min, 待机时:无须待机流量 | |
电 极 | 钨材喷射电极技术 | |
吹 扫 | 点击自吹扫功能 | |
补 偿 | 热变形自补偿设计 | |
激发光源 | ||
类 型 | HEPS数字化固态光源 | |
频 率 | 100-1000Hz | |
放电电流 | 1-80A | |
特殊技术 | 放电参数优化设计 | |
预 燃 | 高能预燃技术 | |
数据采集系统-处理器 | ARM处理器,高速数据同步采集处理 | |
数据采集系统-接口 | 基于DM9000A的以太数据传输 | |
电源与环境要求 | ||
输 入 | 220VAC,50Hz | |
功 率 | 分析时700W,待机状态40W | |
工作温度 | 10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h) | |
工作湿度 | 20-80% | |
尺寸与重量 | ||
主机尺寸 | 800*750*500 mm | |
重 量 | 120Kg | |
OES直读光谱仪应用领域 |
OES全谱直读光谱仪应用CCD/CMOS光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。
OES落地式全谱真空式直读光谱仪体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。
全谱直读等离子体发射光谱仪