设备简介

        气压烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

技术特点

1. 立式设计，使装卸与维修工作更为简便，整个工艺过程自动控制；

2. 温度均匀性好：采用特殊的炉胆结构和加热器布置，炉温均匀性好；

3. 脱脂效果好：采用特殊结构脱脂箱，密封效果好，脱脂几乎对炉内元件无污染；

4. 功能多：具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂等功能；

5. 设计优化好：加热室热场经热态模拟计算，具有非常高的温度均匀性、配置的加热元件及隔热层采用模块化优化设计；

6. 安全性高：具有超温超压等故障报警，机械式自动压力保护，动作互锁等功能，设备安全性高；

  设备可选择配置脱脂系统，实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。

产品规格及技术指标